曝光光源技术为光刻机提供满足光刻需求的特定波长、线宽以及功率的光束，主要包括UV汞灯光源（G-line 、I-line）、DUV准分子激光光源（KrF、ArF、ArFi），以及EUV光源。UV汞灯光源：光刻机最早采用高压汞灯产生的紫外光源，隶属于气体放电光源，汞蒸气被能量激发，汞原 子最外层电子受到激发从而跃迁，落回后放出光子...
ASML公司的产品线包括极紫外光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。特别是EUV光刻机，具有最高的分辨率和精度，能够支持更小的技术节点，提升了芯片生产供应链的竞争力。我国长期与ASML公司合作引进其光刻机产品。不过，最近，美国采取了新的行动，要求ASML公司出口产品给中国时增加申请手续，若含有美国零件...
ASML的光刻机产品线，有极紫外光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机、i-line光刻机。其中EUV光刻机是ASML的明星产品之一。EUV是一种全新的微影技术，可以用于制造最先进的芯片，增强了芯片生产供应链的竞争力，ASML推出的EUV光刻机还拥有业内最高的分辨率和精度。与传统光刻机相比，EUV光刻机能够更好地支持22纳米和...
本公司生产销售显微光刻灯 光刻灯 压高设备,提供显微光刻灯专业参数,显微光刻灯价格,市场行情,优质商品批发,供应厂家等信息.显微光刻灯 显微光刻灯 品牌日本osram|产地广东|价格1.00万|型号RH-8800|规格1000|物镜放大倍数35-7000|仪器放大倍数7000|类型视频显微镜|目镜放大
至于ASML公司对华出口量暴涨的说法，也是有误导性的。根据ASML公司的财报，该公司在2023年第二季度共出货113台光刻系统，其中对中国的出货占比达到24%，相比一季度提升了16个百分点。但是这些出货的绝大多数都是DUV干式光刻机，而不是EUV或者DUV浸润式光刻机。这些DUV干式光刻机虽然比i-line和g-line要先进一些，...
采用UV光源的则是比较低端的光刻机，如i-line光刻机就属于UV，在i-line之下还有更低端的h-line、g-line光刻机等。i-line、h-line、g-line光刻机我们已经实现国产，而ASML外售的光刻机最低也是i-line起步，三季报显示其i-line光刻机营收仅占1％。从1960年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到1970年代...
从上海微电子官网可以了解到，KrF和i-line这两类光刻机已经可以实现国产了。降维打击再次实锤 上海微电子是我国的光刻机制造企业，虽然目前跟ASML差距还很大，但也主要是在芯片制造的前道光刻机上，在后道封装光刻机上，上海微电子做得还是非常的好。据了解，在封装光刻机方面，上海微电子处于全球领先的地位，在...
目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类:分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标,其中,分辨率直接决定制程,极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求,是光刻机最重要的指标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性,此外,多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程...
ASML i-line步进式光刻机PAS 5500/100D二手翻新修改现货 PAS5500/100Di线步进设计用于0.4µm的大规模生产,在其可变数值孔径(NA)保持最大功能性的同时实现极高的吞吐量。该步进器通过优化关键工艺层的聚焦深度和分辨率,扩展了i-line制造多代亚半微米设计规则的能力。
如果按照光源类型划分，不仅有 EUV 光刻机，还有 ArF 浸入式光刻机、ArF 干式光刻机、KrF 光刻机、i-line 设备等。其中，ArF、ArF 和 KrF 都属于深紫外线光刻机 (DUV)，这也是当前半导体制造的主力。从 2012 年到 2023 年，ASML 出货量 2235 台 DUV 光刻机。从 2012 年的出货量来看，ArFi 和 KrF 等...