2）步进重复式：硅片表面上某个曝光场完成曝光 后，硅片台进行步进运动，使得下一个曝光场得以继续曝光。步进重复式光刻机（Stepper）基本能够满足 250nm以上线宽制程的工艺要求，目前仍然应用在芯片非关键层、封装等精度要求相对较低的领域。（3）步 进扫描式：步进扫描式光刻机（Stepper&Scanner）通过动态扫描的方...
ASML 2012-2023 光刻机出货量 如果按照光源类型划分，不仅有 EUV 光刻机，还有 ArF 浸入式光刻机、ArF 干式光刻机、KrF 光刻机、i-line 设备等。其中，ArF、ArF 和 KrF 都属于深紫外线光刻机 (DUV)，这也是当前半导体制造的主力。从 2012 年到 2023 年，ASML 出货量 2235 台 DUV 光刻机。从 2012 年...
ASML 2012-2023光刻机出货量（左右滑动查看全部列表）如果按照光源类型划分，不仅有EUV光刻机，还有ArF浸入式光刻机、ArF干式光刻机、KrF光刻机、i-line设备等。其中，ArF、ArF和KrF都属于深紫外线光刻机(DUV)，这也是当前半导体制造的主力。从2012年到2023年，ASML出货量2235台DUV光刻机。从2012年的出货量来看...
EUV光刻机因为单台售价高，销售套数倒并不高。三季度ASML共售出86台光刻机，按照工艺先进性排序，EUV、ArFi、ArF Dry、KrF、i-line五类光刻机分别售出12、20、6、38 和 10 套。因此，可计算出EUV单台平均售价2.46亿欧元。而三季度ASML新增订单89亿欧元中，也有38亿欧元订单来源于EUV光刻机。光刻机按光源...
最早光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源(UV:UltravioletLight)，从g-line一直发展到i-line，波长缩小到365nm，实际对应的分辨率大约在200nm以上。随后，业界采用了准分子激光的深紫外光源(DUV:DeepUltravioletLight)。将波长进一步缩小到ArF的193nm。不过原本接下来打算采用的157nm的F2准分子激光上遇到了一系列技术...
PAS 5500按照模块化设计,客户可以根据不同工艺随意选配不同部件包,包括:55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C等等等,涵盖了各种光源(i线和KrF),各种尺寸(4-12英寸),各种镜头(i线和KrF镜头),各种投影模式(stepper/scanner)。 这就使得一台设备能够实现百花齐放。
而这个时候，尼康的敌人ASML开始正式成立，当时飞利浦在实验室里研发出 Stepper 的原型，但是没有人愿意买，所以后来独立了出去。ASML最早成立时的简易平房，后面的玻璃大厦是飞利浦另一方面 美日光刻机大战 1986年，半导体市场遭遇大滑坡，美国的光刻机企业或破产或被收购，可以说全部崩塌，美国的光刻机时代宣告结束，...
EUV光刻机因为单台售价高，销售套数倒并不高。三季度ASML共售出86台光刻机，按照工艺先进性排序，EUV、ArFi、ArF Dry、KrF、i-line五类光刻机分别售出12、20、6、38 和 10 套。因此，可计算出EUV单台平均售价2.46亿欧元。而三季度ASML新增订单89亿欧元中，也有38亿欧元订单来源于EUV光刻机。光刻机按光源...
PAS 5500按照模块化设计,客户可以根据不同工艺随意选配不同部件包,包括:55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C等等等,涵盖了各种光源(i线和KrF),各种尺寸(4-12英寸),各种镜头(i线和KrF镜头),各种投影模式(stepper/scanner)。 这就使得一台设备能够实现百花齐放。
PAS 5500 按照模块化设计,客户可以根据不同工艺随意选配不同部件包,包括:55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C 等等等,涵盖了各种光源(i 线和 KrF),各种尺寸(4-12 英寸),各种镜头(i 线和 KrF 镜头),各种投影模式(stepper/scanner)。