ASML在投资者日活动上公布的预测数据也显示，虽然2024-2030年全球基于EUV曝光的晶圆在全球晶圆出货中的占比增长很快，但是从整个市场来看，基于DUV（包括i-Line、KrF、ArF、ArFi）曝光的晶圆仍将是绝对的主导，占比约四分之三。其中，i-Line、KrF、ArF光刻机都主要被用于成熟制程制造，同时大部分的ArFi光刻机也多...
1.早期紫外光源（g-line/i-line）：1960-1980年代，光刻机采用汞灯光源，g-line（436nm）和i-line（365nm）分别支持微米级工艺。接触式与接近式光刻机通过直接投影实现电路转移，但受限于掩膜磨损和衍射效应，分辨率仅达1μm。这一阶段的技术奠定了光刻工艺的基础框架，但无法满足更高集成度的需求。2.深紫外光...
与传统的光刻机相比，EUV光刻机具有更高的分辨率和精度，能够支持更小的技术节点，为芯片制造提供了更大的灵活性和可行性。ASML的EUV光刻机还拥有全球最高的分辨率和精度，是当今市场上最先进的光刻机之一。除了EUV光刻机，ASML公司还有其他类型的光刻机产品，如ArF光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。这些光刻...
2023年ASML光刻机的出货量为449台 （同比+30%），其中EUV、ArFi、ArF、KrF、I-line光刻机的出货量分别为53、125、32、184、55台。进入 2024年以来，24Q1公司的光刻机出货量为70台，出现较大下滑（同比-30%、环比-44%），主要系面向中国 大陆以外地区的光刻机出货量大幅减少，而面向中国大陆的光刻机出货量...
从全球范围来看,相关数据显示,2019年ASML、Nikon和Canon半导体用光刻机共出货359台。在半导体中低端市场,ASML占据34%的i-line光刻机市场份额;Nikon的市占率为18%;Canon则以49%的份额在i-line光刻机市场占据领先。ASML在KrF光刻机出货量上以65%的比例占据绝对优势;Canon以34%的比例追随其后;Nikon只占4%的KrF光...
目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类:分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核心指标,其中,分辨率直接决定制程,极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的追求,是光刻机最重要的指标,而套刻精度影响良率,产率影响光刻机的产能及经济性,此外,多重曝光技术可在光刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯片制程...
ASML的光刻机产品线，有极紫外光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机、i-line光刻机。其中EUV光刻机是ASML的明星产品之一。EUV是一种全新的微影技术，可以用于制造最先进的芯片，增强了芯片生产供应链的竞争力，ASML推出的EUV光刻机还拥有业内最高的分辨率和精度。与传统光刻机相比，EUV光刻机能够更好地支持22纳米和...
设备系统产品分为IC前道光刻机和量测设备两大类,其中IC光刻机应用于IC 前道光刻工序中的曝光步骤,在设备系统中的收入占比超过95%。按照光源种类对ASML的IC光刻机进一步 拆分,可分为I-line光刻机、DUV光刻机(KrF、ArF、ArFi)和EUV光刻机。 过去十年业绩稳健增长,未来业绩指引相对乐观...
ASML推出了一种用于0.35微米成像的新型i-line光刻系统,旨在帮助客户从0.5微米以上的制造技术过渡到更严格的分辨率。 PAS 5500/150是流行的PAS 5500/100 i-line系统的后续产品,针对大批量半导体生产进行了优化。随着这一产品组合的增加,ASML拥有了三种产品来满足0.5微米到0.25微米的成像要求:PAS 5500/150、PAS 5500/...