ASML 二手翻新现货ARF光刻机 AT:1100是一款步进式ARF扫描仪,可在300mm的晶圆上进行100nm体积的生产。 ASML双级ARF光刻机AT:1100特点: 无线PDAs可链接企业数据库 可实时翻译语言 3D高清视图成像 具有处理复杂计算的能力 动态事件模拟能力 双晶片阶段特点: 70nm动态平衡量; 全三维晶圆映射独立位置计算; 双晶片级并...
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型号 AT:1100 加工定制 否 新旧程度 二手 库存数量 999 曝光光源 ARF 晶圆大小 300mm Pixel Factor 2000 镜头NA 0.75 吞吐量 93wph 镜头重量 500kg 产地 青岛 产品名称 ARF光刻机 类型 光刻机 可售卖地 全国 品牌 ASML 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加...
需要采购双级ARF光刻机ASMLAT1100用于100nm批量生产 王英信中 广东|佛山 需求 双级ARF光刻机 186***990 立即解锁 激光直写光刻机采购项目 爱企查用户 广东|深圳 需求 激光直写光刻机 杨** 152***810 立即解锁 科研掩膜光刻机备品备件采购 爱企查用户 广东|广州 需求 梁** 020***568 立...
不久,ASML的i线光刻机也引入了双晶圆平台,即TWINSCAN AT:400T;随后这项技术又引入到更高端的193nm的ArF光刻机上,即TWINSCAN AT:1100。因此从i线到KrF线,TWINSCAN系统跨越ASML各个平台型号的光刻机,扩大了技术范围,让所有芯片层都能在新平台上曝光。 首批TWINSCAN系统——AT:400 与早期的PAS 5500平台一样,ASML...
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双级ARF光刻机 ASML AT:1100 300mm晶圆上100nm批量生产 真实性已核验 查看电话 在线咨询 查看详情 面议 上海 ArF光刻机 阿斯麦(ASML)型号XT1700Fi 年份2007 真实性已核验 查看电话 在线咨询 查看详情 面议 上海 步进式光刻机 佳能(Canon)型号FPA-5500iZ+ 真实性已核验 查看电话 在线咨询 ...
查看详情 面议 上海 ArF光刻机 阿斯麦(ASML)型号XT1700Fi 年份2007 真实性已核验 查看电话 在线咨询 查看详情 ￥1.00 上海 双级ARF光刻机 ASML AT:1100 300mm晶圆上100nm批量生产 真实性已核验 查看电话 在线咨询 查看...
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ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1100采用193nmArF曝光光源,针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。 AT:1100具有12"扫描仪。AT:1100是一个193nm波长系统,具有业界最高的数值孔径ArF透镜(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mmTWINSCAN双级平台之上。AT:1100以20mJ/cm2的剂量实现每小时93个晶圆的吞吐量。