XRD技术可以进行材料的结晶相、晶向、结晶性、晶粒尺寸、镀膜的优选方位、多晶薄膜的残留应力分析；若搭配高分辨率配件可进行镀膜/磊晶品质分析、异质磊晶薄膜成分比例、厚度、晶格匹配度或是松弛分析；若通过全反射技术可分析多层薄膜厚度、表面/界面粗糙度、材料密度等。总的以上的案例，XRD的应用层面非常广，对于先进...
该晶片XRD摇摆曲线五点测试结果如图2所示,其(00.2)面及(10.2)面XRD FWHM值均低于100″,反映出晶体较高的结晶质量及均匀性。 图1 高质量AlN晶头及其表面形貌。(a)晶体头部照片; (b) 、(c)原子力显微镜下表面微观形貌 图2 头部晶片的XRD摇摆曲线。(a)某点(00.2)面的XRD摇摆曲线;(b)某17 mm×17mm区域(00...
他们使用了原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）、透射电镜（TEM）等手段对样品进行了表征，并利用第一性原理计算对实验结果进行了理论分析。他们发现，在Ga/N 2 *比值为1.1时，GaN层呈现出混合螺旋和二维成核生长模式，导致界面扩散严重；而在Ga/N 2 *比值为2.2时，GaN层呈现出纯粹的螺旋生长模式，导致界...
1. 实验方法:在密封的碳化钽(TaC)坩埚中通过PVT生长AlN单晶,控制生长温度、压力和加热速率。 2. 晶体质量评估:使用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光光谱(UV-Vis)、光致发光(PL)、二次离子质谱(SIMS)、拉曼光谱和应力模拟等技术来评估AlN晶体的质量。 3. 晶体质量的演变:研究了AlN生长层质量随着晶体厚度增加而逐渐...
1.2 晶体结构分析 晶体结构分析是评估氮化铝晶片的晶体质量和缺陷情况。常用的方法有：X射线衍射（XRD）：用于确定晶片的晶体结构、晶格常数和结晶度。透射电子显微镜（TEM）：用于观察晶体缺陷、位错和晶界。高分辨X射线摇摆曲线（HRXRD）：用于评估晶片的晶体质量和应力状态。2. 结构特性检测 氮化铝晶片的结构特性对其...
微观结构分析：微观结构包括晶粒大小、晶界形貌和相组成等。通过扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和X射线衍射（XRD）等手段进行分析，可以了解材料的内部结构及其对性能的影响。表面粗糙度和缺陷检测：表面质量对硅基氮化铝的性能和可靠性至关重要。利用原子力显微镜（AFM）和表面轮廓仪等设备检测表面粗糙度...
图1 Al和DN混合粉在不同研磨时间下的XRD图谱 当研磨时间少于8h时,混合粉末为Al和DN为主相。继续增加研磨时间,DN衍射峰逐渐消失,AlN的衍射峰出现,随着时间的增加,AlN的峰越来越明显,说明固-固反向在研磨过程中完成。同时,等离子体的快速加热和球磨的冲击力的共同作用,颗粒细化并扁平变形,Al、DN和AlN衍射峰呈现出...
采用DC磁控溅射法,分别在p-Si(111)和玻璃基片上沉积AlN薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、台阶仪\\紫外/可见分光光度计和傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)分析了薄膜的结构组分、表面形貌、膜厚、光学性能和红外吸收特性。结果表明:溅射电流对AlN薄膜的生成有很大的影响,当电流增加到...
XRD结果显示,本实施例AlN薄膜只在36°附近出AlN(002)晶面衍射峰,说明薄膜在(002)面择优生长;AFM三维视图显示薄膜表面粗糙,其均方根粗糙度(RMS)为4.7nm;附着性通过冷热循环10周期之后开始脱落。 实施例1 一种AlN薄膜的制备方法,包括以下步骤: (1)衬底预处理; ...
SiC—AIN固溶体的XRD和NMR研究 陈忠明林庆玲 √1] 冲 学 撕 .ra,7<-/ - (中国科学院武汉物理研究所波谱与原T-分子物理国家重点实验室) 关 —NN —f~. 化硅一氮化铝系统,陶瓷碳毪闹, b锯闸气、xR 1 引 言 碳化硅工程陶瓷以其高强度、高硬度、高热导和优良的抗化学腐蚀性能而被认为是热机 ...