或者目标函数，这里分子力学的主要目标函数就是势能（也有动能项，但动能项更多的来源于分子动力学模拟的...
应用嵌入原子势作为势函数,对薄膜沉积过程进行分子动力学模拟,来模拟不同工艺条件下的成膜过程、薄膜质量及各参数变化对成膜的影响.结果表明,衬底温度越高,则原子在薄膜表面的扩散能力越强,薄膜内部的空位密度越小.但衬底温度对薄膜质量的影响只在一定范围内比较明显;原子自身携带的能量越高,则其扩散能力也越强,...
采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析 了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响.模拟结果表明,随着衬底温度的升高,在衬底表面上沉积的MgO分 子扩散能力增强,MgO薄膜层中空位缺陷变少.低温下,分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖...
模拟结果表明碳原子与碳氢薄膜作用会在表面形成碳薄膜。随着入射能量的增加,碳薄膜厚 度变薄。在碳薄膜中碳原子的成键形式主要为 Csp2−Csp2 和 Csp2−Csp3,随入射能量的增加,碳原子键价结合形式 从 Csp2−Csp2 向 Csp2−Csp3 转化。 关键词:分子动力学;碳氢薄膜;再沉积;碳薄膜 中图分类号:TL62+...
应用嵌入原子势作为势函数,对薄膜沉积过程进行分子动力学模拟,来模拟不同工艺条件下的成膜过程、薄膜质量及各参数变化对成膜的影响.结果表明,衬底温度越高,则原子在薄膜表面的扩散能力越强,薄膜内部的空位密度越小.但衬底温度对薄膜质量的影响只在一定范围内比较明显;原子自身携带的能量越高,则其扩散能力也越强,特别...
A1薄膜沉积分子动力学Ti/A1 thin filmdepositionmolecular dynamics采用分子动力学模拟方法,研究了Ti原子连续沉积于AI(001)表面上的薄膜生长过程,分析了入射能量为0.1、5eV和衬底温度为300、700K时的界面结合及微观结构.模拟结果表明,增加入射能量和衬底温度,使Ti薄膜的表面越光滑;通过径向分布函数和键对分析技术对薄膜...
原子簇,铜表面,薄膜沉积,分子动力学用分子动力学计算机模拟研究了能量为5-20eV/atom,结构为正二十面体的 (Cu)13原子簇在Cu(001)表面的沉积过程.采用紧束缚势同Moliere势的结合描述Cu原子间相互作用.通过原子簇-衬底相互作用的"快照" 研究沉积的动态过程.结果表明,当入射能量较低时,轰击弛豫后,入射原子簇在衬底...
利用分子动力学模拟方法对Cu团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度,缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异.Cu团簇的初始沉积能量范围为0.1~10.0 eV/atom,沉积率为1.0 clusters/ps,衬底温度分别为300,700和1 000 K.模拟结果表明:团簇初始沉...
薄膜沉积分子动力学用分子动力学计算机模拟研究了能量为5-20eV/atom,结构为正二十面体的(Cu)13原子簇在Cu(001)表面的沉积过程.采用紧束缚势同Moliere势的结合描述Cu原子间相互作用.通过原子簇-衬底相互作用的"快照"研究沉积的动态过程.结果表明,当入射能量较低时,轰击弛豫后,入射原子簇在衬底表面发生重构,生成很好...