磁控共沉积微观结构温度敏感性电阻温度系数采用磁控溅射共沉积法制备Al-Pb复合薄膜,运用TEM,SEM,EDX和电阻-温度仪对薄膜微观结构和电性能进行研究.结果表明,Al-Pb薄膜具有温度敏感性,电阻温度系数(TCR)可达8.4×10-3℃-1.薄膜微观结构含富Al基体相和富Pb第二相,呈两相组织.随着厚度的增大,第二相粒子及基体相晶粒...
摘要 通过双靶磁控溅射共沉积法,在硅(100)和康宁玻璃基片上制备了一系列不同Co 含量(原子含量0~2712%)的V -C -Co 薄膜,并分别用扫描电子显微镜及其附带的X 射线能谱仪分析了薄膜的生长结构及成分,用X 射线衍射仪分析了薄膜的相组成,用纳米压痕仪分析了薄膜的力学性能。结果表明,Co 在V -C -Co 中以非晶...
磁控溅射ALD沉积(Magnetron sputtering ALD deposition system) 所在单位:北京科技大学 品牌/型号:原子层沉积磁控一体化镀膜系统,JCP350 所在地区:北京市 仪器说明:我们目前尚未与北京科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求,...
磁控溅射沉积系统(Magnetron sputtering deposition system) 所在单位:常州工学院 品牌/型号:沈阳科学仪器研制中心有限公司,JGP-560B 所在地区:江苏省 仪器说明:我们目前尚未与常州工学院提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求,委托...
将显影后的基片放入多靶共溅磁控溅射腔体中,分别装上金属铬与金靶材。 在真空度小于1.0×10^-3Pa的条件下,先溅射沉积铬层厚度为5nm～200nm,再溅射沉积铬、金合金层厚度为3nm～200nm 电镀过程: 预处理:包括脱脂除油、水洗、酸洗活化等前处理工序 发布于 2024-07-23 10:33・IP 属地北京 ...
本发明涉及一种磁控溅射共沉积铌铜,铌镍合金用于燃料电池双极板的应用,可分为以下几个步骤:1)工件脱脂清洁;2)固定与镀件夹具;2)抽真空;3)偏压等离子体清洁;4)阴极电弧结合层;5)Nb铌;6)铌铜合金层或铌镍合金层,使用导电度佳,热稳定性优,耐蚀性佳的铌金属与铜(或镍)金属以磁控溅射的方式共沉积,利用铜,...
磁控溅射TiN/TiCN多层膜304不锈钢调制周期高温抗氧化性能TiN/TiCN多层膜的高温抗氧化性研究对于扩大其应用领域具有重要作用,但目前鲜见相关报道.采用多弧离子镀与磁控溅射技术以不同调制周期在304不锈钢表面共沉积TiN/TiCN多层膜.采用XRD,XPS,倒置显微镜及高温氧化试验研究了多层膜的高温抗氧化行为.结果表明:TiN/TiCN多层...
采用双靶磁控溅射共沉积技术制备了全成分范围内的银钼合金薄膜,分析了其组织结构及其演变规律,探究了非平衡磁控溅射条件下的Gibbs自由能变化,研究了电学,力学和摩擦磨损性能,并基于银钼合金薄膜过渡层应用设计制备了Ag/Mo复合互连材料.银钼合金薄膜成分受控于双靶溅射功率比,但并非线性关系.样品台自转速率会影响合金...
通过双靶磁控溅射共沉积法,在硅(100)和康宁玻璃基片上制备了一系列不同Co含量(原子含量0~27.2%)的VC-Co薄膜,并分别用扫描电子显微镜及其附带的X射线能谱仪分析了薄膜的生长结构及成分,用X射线衍射仪分析了薄膜的相组成,用纳米压痕仪分析了薄膜的力学性能。结果表明,Co在V-C-Co中以非晶的形式存在,且Co的加入...
本发明的连续双面共沉积制硅材料的工业化生产系统通过在磁控溅射室中对称布置多个阴极靶的方式,在开卷机(2)的带动下,能够对厚度小于0.35mm的低硅硅钢板进行硅含量为5～8wt%的沉积,实现了连续沉积硅材料的目的,且能耗低,生产效率高.本发明工业化生产系统解决了现有只能采用化学气相沉积方法制商品化Fe-6.5wt%Si硅...