一、硬光刻与软光刻 硬光刻是一种常见的微流体芯片加工制作技术。其原理是将硅片放在一个真空中,再将紫外线照射在硅片上,这样可以将图案拓扑浸入磨料中,进而得到一个硅片模板。而软光刻是一种通过光敏树脂、UV照射和化学刻蚀实现微流控芯片制造的技术。 二、为什么微流体...
软光刻技术是1993年由美国Harvard大学的Whitesides研究小组首先发展的，涉及传统光刻、有机分子（例如硫醇和硅G.M.Whitesides氧烷等）自组装、电化学、聚合物科学等领域的一类综合性技术的统称。主要特征是采用PDMS制成的表面具有微观图案的印章或模具来进行微观结构的复制。与传统的光刻技术相比，PDMS模具的制备比较容易，...
在微流体制造领域,软光刻技术相较于硬光刻技术具有显著优势。硬光刻技术虽在微流控芯片制作中广泛应用,但其过程中易对硅片表面造成破坏,影响微流体的精度。相反,软光刻技术利用光敏树脂、UV照射及化学刻蚀,不仅可避免硅片表面损伤,还能通过调整树脂性质,灵活制作多种类型的芯片,实现更高的精度与分辨率。此外,软光刻所...
三、软光刻技术的重要性 软光刻技术的出现,使得微纳尺度结构制造成为可能。与传统的光刻技术相比,软光刻技术具有成本低、制备简单、制造精度高等优点。此外,软光刻技术还可以与其他微纳制造技术相结合,如微流控技术、生物芯片技术等,从而实现更加复杂的微纳尺度结构制...
一种通过软光刻技术制造刚性微流控器件的详细方案 软光刻技术可通过在可变形弹性体(例如聚二甲基硅氧烷(PDMS))上使用光刻图形化模具,实现具有精确特征的微流控器件快速成型(rapid prototyping)。在微流控应用中,PDMS的柔软性是一个劣势,目前已有多种更刚性的材料出现。与其它可替代的材料相比,由环氧树脂和玻璃制成...
软光刻实验安全问题探讨 3天前 软光刻实验在正确的操作下可以安全进行。 一、有毒气体的释放 软光刻实验中常用到较多的是氟化物和酸类等有毒化学品,这些化学品在加热或操作时会产生气体,如F^-、HF、HCl等,这些气体如果不及时处理或未采取防护措施,会对实验室工作人员的健康造成威胁。因此,在进行...
软光刻是一项重要的技术,它可以在化学、材料科学和生物学等多个领域用弹性体材料快速制造微型器件。 制造这些器件通常需要在刚性硅光刻胶(Si-Pr)复合母模上浇铸预固化弹性体,以便复制Si-Pr母模上的微特征。并经常与聚二甲基硅氧烷(PDMS)一起用于实现不同的微加...
在光刻加工中,软光刻是指一种用于通过在模具上模制和压印弹性体来创建微型器件或三维结构的技术。用这种技术制造的最常见的设备是广泛用于细胞生物学的微流体。该技术中最常用的弹性体是PDMS(聚二甲基硅氧烷)一种柔软的生物相容性弹性体,具有高热稳定性、高化学稳定性、低毒性、化学惰性、绝缘性、对紫外线和可见光...
软光刻:SU-8烘烤教程(适用于烘胶台) 加热SU-8模具的设备和协议 复制基于PDMS的结构首先需要制造一个SU-8主模,将作为PDMS铸造的模板。在SU-8母版的制作过程中,通常是基于标准光刻工艺,SU-8光刻胶的薄膜必须烘烤几次,如图1所示。 图1:用于制作SU-8主模的光刻标准协议:使用的SU-8薄膜必须至少烘烤两次 ...