(2)软光刻 除了激光烧蚀法,我们再来看看软光刻方法。 软光刻(softlithography)是相对于微制造领域中占据主导地位的光刻而言的微图形转移和微制造的新方法,以自组装单分子层、弹性印章和高聚物模塑技术为基础的微细加工新技术。它能制造复杂的三维结构及不规则曲面;能应用于生物高分子、胶体、玻璃、陶瓷等多种材料;没...
《基于软光刻法的多层垂直耦合光波导研究》是依托浙江大学，由吴兴坤担任项目负责人的面上项目。项目摘要 本项目研究下一代高聚物光学器件所必需的层间互连多层高聚物波导，即垂直耦合多层高聚物波导（Vertically-coupled multilayered polymeric waveguide），是当前有机光电器件、光波导技术与光电子学领域的一个前沿的重要...
最后,将软光刻法用于制作自行设计的新型Y分叉光功率分配器.母版的制作采用运动精度为0.1μm的高精度数控雕刻机进行单线雕刻,而后通过两个步骤的翻印得到器件的硅酮弹性体(PDMS)阴模,将UV固化树脂通过毛细管成模(MIMIC)工艺填充该模具,然后将其覆盖于光学基底,采用紫外光固化成形,形成自承式(stand-alone)结构.对制作...
它吸附疏水分子,并且可以将一些分子从不良交联释放到液体中,这对于PDMS微流体装置中的一些生物学研究来说可能是一个问题。在这里,我们简单概括下用软光刻方法制造微流控芯片的方法。图2.软光刻方法制造微流控芯片的方法(1)成型步骤允许从模具批量生产微流控芯片。
用于软光刻 法中的构图设备通常包括弹性体材料,例如聚(二曱基硅氧烷)(PDMS), 并且通常通过将预聚物浇铸于用常规光刻法形成的母板上而制备。构图 设备的机械特性对于制造具有良好的保真度和定位精度的、高机械强度 的被转印材料图案而言非常重要。 能够生成微米级和/或纳米级结构的软光刻方法包括纳米转印...
18.待复制件预处理:利用乙醇或异丙醇将待复制物件超声波清洗保证表面清洁,然后浸泡在去离子水中冲洗3-5次,最后用氮气吹干,等待进一步的软光刻过程。 19.物件复杂表面形貌的复制:先选择表面具有凸起的待复印物件(不论凸起高度大小皆可复制),将pdms均匀浇筑在物件表面,经真空泵抽真空后在室温静置1～2天后揭下,获得...
步骤5:球面基底与pdms软模板紧密接触后,保持现状,启动加热板加热,等待胶体固化后将球面基底与pdms软模板分离,此时便在球面基底上制得微纳结构。 本发明具有如下有益效果: 本发明新颖之处在于设计了一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法,其pdms软模板固定槽的口径可以根据所需球面基底的直径自行设计调整,...
基于软光刻法的新型Y分叉光功率分配器,基于软光刻法的新型Y分叉光功率分配器——所有资料文档均为本人悉心收集,全部是文档中的精品,绝对值得下载收藏!,新型,基于,帮助,软光刻,Y分叉,Y分支器,功率分配器,光刻胶,光刻机,光刻技术 君,已阅读到文档的结尾了呢~~ ...
“使用软或压印光刻法制备隔离的微米-和纳米-结构的方法”专利由约瑟夫·M.·德西蒙、 贾森·P.·罗兰、 安斯利·E.·埃克斯纳、 爱德华·T.·萨穆尔斯基、 R.·祖德·萨穆尔斯基、 本杰明·W.·梅诺、 拉肯·E.·欧利斯、 金格尔·M.·丹尼森共同发明。本公开主题描述了使