一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法说明:本发明公开了一种三维多层垂直耦合光互连结构及其软光刻的制作方法。直波导输入输出段、S形弯曲坡面...专利查询请上爱企查
步骤5:球面基底与PDMS软模板紧密接触后,保持现状,启动加热板加热,等待胶体固化后将球面基底与PDMS软模板分离,此时便在球面基底上制得微纳结构。 说明书 技术领域 本发明涉及微细加工领域,具体涉及一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法。 背景技术 软光刻技术是由哈佛大学的Whitesides.M.G研究小组在上个...
一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法说明:本发明公开了一种在球面基底上实施软光刻技术的装置及其使用方法,涉及微细加工领域,包括固定支架、...专利查询请上爱企查
摘要 本发明涉及一种纳米软膜光刻制备微纳PSS的方法,步骤为:均胶:首先,取一蓝宝石衬底,在蓝宝石衬底基层上均匀涂上一层光刻胶;曝光:然后,将蓝宝石衬底移至软膜的下方,将软膜与蓝宝石衬底微接触,并进行曝光处理;显影:曝光后的蓝宝石衬底从软膜下方移开,去掉被曝光的光刻胶,留下未曝光部分,实现图形转移;刻蚀:对...
摘要 本发明公开一种利用软光刻技术制备有机半导体材料环形阵列集成光电器件的方法,包括如下制备步骤:(1)有机半导体材料溶液的制备;(2)基底的预处理;(3)环形阵列模板的制备;(4)环形阵列集成器件的制备。本发明充分利用软模板自上而下的限域作用与有机半导体材料易于进行自下而上的自组装特性相结合的方法,避免了光...
该制备方法包括采用软光刻技术制作具有设定图案结构的掩模;以液态高分子化合物或高分子化合物溶液均匀覆盖所述掩模,并形成一定厚度的液层;使该液层固化,之后移除掩模,获得印章,其印面具有设定立体结构;以所述印面与修饰剂接触,使修饰剂以可脱离方式附着在所述印面上;以所述印面与选定基底表面接触,之后将所述印章...
本公开主题描述了使用氟化的基于弹性体的材料,尤其是全氟聚醚(PFPE)系材料在高分辨的软或压印光刻应用,例如微米-和纳米级复制品模制中,及有机材料的第一纳米接触模制,使用弹性体模具产生高准确度特征的用途。相应地,公开主题描述了通过使用软或压印光刻,制备独立式的隔离的任何形状纳米结构的方法。
所述基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备系统,包括:计算机、激光光源、激光光束整形器、激光扩束器、光刻图形生成器、光刻投影镜头、样品平台及平台运动控制器;光刻图形通过计算机输入到所述光刻图形生成器中,所述激光光源发出的光束依次通过激光光束整形器和光束扩束器后照射到所述图形生成器表面,所述光束经所述图形...
柔性光刻胶软模板及其制备方法专利信息由爱企查专利频道提供,柔性光刻胶软模板及其制备方法说明:本发明提供一种柔性光刻胶软模板及其制备方法,制备方法包括:1)提供牺牲衬底,在牺牲衬底上形成光...专利查询请上爱企查
用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料功能性微结构表面的方法专利信息由爱企查专利频道提供,用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料功能性微结构表面的方法说明:用于塑料功能性微结构表面批量化生产的采用软光刻技术复制塑料