射频溅射是一种常见的薄膜制备技术,适用于 metal、oxide、nitride 等多种材料的制备。通过将靶材置于真空室内,在加入惰性气体的环境下施加高频电场,使得靶材表面发生碰撞,产生原子、离子等束流,并在衬底表面生成薄膜。 1.射频溅射的基本原理 射频溅射的基本原理是将靶材表面而不是整个靶材进行加热,利用加热后的靶材表面...
射频溅射法 射频溅射法，利用核能粒子轰击靶材，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的工艺。技术优点是：（1） 具有很高的镀膜速度；（2） 适用于多种涂覆材料，包括各种合金及化合物；（3） 适用于不同的集材，如塑料、瓷和金属；（4） 沉积速率高，适合大面积薄膜的制备。
1. 射频溅射率的概念与单位 溅射率（Sputtering Rate）是指单位时间内从靶材表面溅射出的原子数量或质量，通常用单位面积上的厚度变化来表示，即薄膜厚度的增长速率。其单位可以是纳米每分钟（nm/min）或微米每小时（μm/h）。射频溅射率的高低直接决定了薄膜沉积的效率，因此在工业生产中具有重要的经济价值和技术意...
射频溅射沉积 射频溅射沉积，亦称“溅射镀膜”。金属表面涂层技术之一。属气相沉积方法。将涂覆用材料制成靶作为阴极,被离子轰击后溅射出原子或分子,在电场作用下沉积于被镀工件(底材)表面形成薄膜。射频溅射是用高频电磁场来维持辉光放电,产生轰击离子使溅射不断进行。
射频靶不起辉现象是指在磁控溅射过程中,尽管施加了射频功率,但靶材表面没有产生等离子体辉光。这种现象可以通过以下几种方法进行识别: 视觉观察:正常情况下,射频溅射过程中靶材表面会出现明显的等离子体辉光,而不起辉时则无此现象。 电学测量:射频溅射时的电流和电压特性会显示异常,如电流显著下降或电压异常升高。
射频磁控溅射的技术优势: 全材料溅射能力:RF 溅射可溅射包括金属、合金、氧化物、氮化物、陶瓷、玻璃、聚合物等在内的几乎所有固态材料,极大地拓展了磁控溅射技术的应用范围。 显著降低打火:高频射频电源能够在每个射频周期内快速中和积聚在绝缘靶材表面的电荷,有效抑制靶充电效应和打火现象,提高工艺稳定性,尤其是在反应...
在射频反应磁控溅射制备TiN薄膜的实验中，主要材料包括高纯度的钛靶（Ti）和高纯度的氮气（N2）。钛靶通常选用99.99%的高纯度金属钛，以保证薄膜中不含有杂质。氮气作为反应气体，需经过严格的纯化处理，以去除其中的杂质，确保溅射过程中反应的稳定性和纯净性。实验用到的设备和仪器 实验主要使用射频反应磁控溅射系统...
溅射气体的种类不同,对射频溅射离化率作用有别 。工作气压的变化能在一定程度上改变射频溅射离化率 。靶材的材质特性会影响原子被离化的难易程度进而影响离化率 。靶材表面状态对射频溅射离化率高低也存在一定作用 。射频频率的调整可对射频溅射离化率产生重要影响 。溅射时间的长短与射频溅射离化率之间存在特定...
射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。射频溅射：用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，由于常用的交流电源的频率在射频段（5~30MHz）所以这种溅射方法称为射频溅射。射频溅射射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜，获得的薄膜致密、纯度高、与...