射频磁控溅射法 射频磁控溅射法是一种重要的薄膜制备技术,主要应用于金属、合金、氧化物、氮化物等材料的制备。其工作原理是利用射频电场激励磁控溅射靶材并产生等离子体,将靶材原子或分子从表面溅射到基底上形成薄膜。该技术具有高沉积速率、高质量、可控性好等优点,广泛应用于微电子、光电子、光伏等领域。随着纳米科技的发展,射
射频磁控溅射法是一种利用射频电场和磁场共同作用下的离子化过程,将靶材表面的原子或分子溅射到基底上形成薄膜的技术。其中,射频溅射的特点在于它可以在靶材上产生自偏压效应,使得击穿电压和放电电压显著降低,因此不再要求靶材必须是导电体。而磁控溅射则是...
1. 采用磁控溅射原理,通过射频电源(13.56MHz)产生高密度等离子体 2. 工艺参数优化后,薄膜沉积速率可达15nm/min,厚度均匀性±3% 3. 基片温度控制在200-400℃范围,既保证结晶质量又避免器件热损伤 三、新型溅射工艺的产业...
工作条件:工作气压0.5pa,溅射电压1500V,靶电流密度2.0 mA/cm2,,薄膜沉积速率0.3m/min。 三级溅射的缺点:难于获得大面积的且分布均匀的等离子体,且其提高薄膜沉积速率的能力有限, 二 射频溅射 定义:射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。 工作原理:人们...
在射频反应磁控溅射制备TiN薄膜的实验中，主要材料包括高纯度的钛靶（Ti）和高纯度的氮气（N2）。钛靶通常选用99.99%的高纯度金属钛，以保证薄膜中不含有杂质。氮气作为反应气体，需经过严格的纯化处理，以去除其中的杂质，确保溅射过程中反应的稳定性和纯净性。实验用到的设备和仪器 实验主要使用射频反应磁控溅射系统...
射频磁控溅射的原理示意图 溅射是一个在离子与物质表面原子碰撞过程中发生能量与动量转移、最终将物质表面原子激发出来的复杂过程。所谓磁控溅射，就是在二极溅射的基础上附加一个磁场，利用电子在正交电磁场中作螺旋线轨迹运动，进一步提高真空溅射镀膜的效率和质量，以金属靶材为阴极，阳极接地，也可以是正电位，两极间...
目前制备氧化铝的方法主要有气相沉积、溶胶-凝胶法、水热法、等离子体烧结等。 二、射频溅射原理及实验方法 射频溅射是一种常用的薄膜制备技术,其原理是在真空环境下,通过高能量的电子束或离子轰击形成的等离子体使靶材表面的原子或离子在惯性或热扩散的作用下沉积到衬底上。氧化铝的射频溅射制备方...
1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的。详细解释只能去看书，还不让粘贴，没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会...
利用射频溅射法在 Si 衬底上制备了 SiC 薄膜 ,并利用 x 射线衍射 ( XRD) 和红外 ( IR) 吸收谱对薄膜的结构 、 成分 ) 及化学键合状态进行了分析 . XRD 结果表明 ,低温制备的 SiC 薄膜为非晶相 , 而在高温下 ( > 800 ℃ , 薄膜呈现 4H2 膜的表面形貌进行了研究 ,并研究了样品的场发射特性 . 关键...
1. 射频匹配需要在无氧、无水的环境下进行,以避免氧化和腐蚀。 2. 不同材料的溅射电源需要采用不同的匹配方法和参数。 3. 匹配参数需要结合具体实验条件和目标薄膜进行优化,以实现最佳的匹配效果。 4. 射频功率过大或过小都会影响匹配效果,需要进行合理调节。 5. 射频匹配过程需要精确测量和调节,...