> 可以编辑40多个菜单,每个菜单可有50步 > 可变量数据输入(时间、温度、速度等) > 设备背面安装第二个触摸屏—选项 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
《华林科纳-半导体工艺》臭氧氧化和硅蚀刻的深度分析 华林科纳cse 泛半导体知识分享平台 本文章提出了一种新的半导体超卤素深度分析方法,在通过臭氧氧化去除一些硅原子层,然后用氢氟酸蚀刻氧化物后,重复测量,然后确定了成分和表面电位的深度分布,因此这种分析技术提供了优于0.5纳米的深度分辨率,…阅读全文 赞同...
华林科纳cse 泛半导体知识分享平台 第一代半导体材料主要用于分立器件和芯片制造;第二代半导体材料主要用于制作高速、高频、大功率以及发光电子器件,也是制作高性能微波、毫米波器件的优良材料,广泛应用在微波通信、光通信、卫星通信、光电器件、激光器和卫星导航等领域。第三代半导体材料广泛用于制作高温、高频、大功率和...
半导体兆声清洗机—华林科纳CSE Mega sonic cleaning machine 华林科纳CSE-兆声清洗机适用于硅晶片蓝宝石晶片砷化镓晶片磷化铟晶片碳化硅晶片石英晶片 可处理晶片尺寸2'-8'; 可处理晶圆材料:硅砷化镓磷化铟氮化镓碳化硅铌酸锂钽酸锂等; 主要应用领域:半导体太阳能光伏液晶等 ...
申请人: 苏州华林科纳半导体设备技术有限公司 办理/代理机构: 柜台办理 商标进度 注册申请 2008-04-08 初审公告 2010-03-27 已注册 2010-06-28 终止 2020-06-27 商标信息 商标图案 商标名称 华林科纳;CSE 国际分类 第07类-机械设备 商标状态 商标转让 申请/注册号 6645516 申请日期 2008-04-08 ...
然而,在上述提及的行业中,很多控温的药液往往带有腐蚀性,制程工艺要达到100℃以上高温,这就需要冷热交换器用不同的材质来适应不同的材质。作为湿制程设备专业制造商,经过多年研发及更新换代,华林科纳公司研发的新型CSE-CHEC-VI电子冷热器能够实现各行业95%以上的不同湿制程要求下的精确控温。
华林科纳CSE实验室 湿电子化学品工作站 匀胶台显影机QDR清洗干燥 湿电子化学品工作站 匀胶台 显影机 QDR清洗 干燥
详细介绍 华林科纳—CSE 半导体器件设备-单晶圆清洗设备适用于薄晶圆(到80 μm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不受损毁。设备品牌:华林科纳—CSE 制造厂商:苏州华林科纳半导体设备技术有限公司搜...
公司注重持续和技术改进,目前已拥有发明专利技术18项,并多次获得高新技术产品认定证书,肯定了企业的整体实力。 10多年以来始终为半导体和太阳能行业提供的的湿法工艺解决方案; 以技术为支撑,以精细管理做保证,以的产品和优良的服务赢得了各界用户的赞许和信赖。
产品特色:内置电阻率监测,确保清洗结果稳定、可靠。标准流程时间<8分钟(上料、冲洗、旋转干燥、下料)低氮气消耗,迷宫密封设计使用更少的N2,门密封和阀使用CDA…