CSE华林科纳半导体多年来一直专注于半导体湿法清洗工艺解决方案,其硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备、IPA干燥系统、CDS供液系统、化学品灌装稀释等设备被广泛应用于半导体晶圆芯片、光电子器件、MEMS和集成电路等领域。
半导体对于原材料的要求非常高,氟塑制品在半导体行业应用广泛,其一大特点就是超净高纯,保证了半导体制造生产的质量。 目前华林科纳氟塑制品使用的高纯原料品牌为DAIKIN和Dupont。本文主要对其PFA系列原料进行讲解。那么哪些型号才是高纯PFA原料呢?它们的主要应用...有哪些? 大金生产两种类型的PFA,工业级和半导体级,...
生长高质量半导体薄膜的前提条件是反应室内的气流应为层流,最佳反应室结构是指能够产生层流分布的结构,最佳结构是相对的,与生长条件密切相关这就要求设计人员必须根据生长的材料系统及生长条件来设计反应室结构,2化学反应热力学模拟系统:对于MOCVD系统,在一定条件下,当反应物的消耗速率及生成物的产生速率近似相等时...
华林科纳(江苏)半导体设备有限公司成立于20世纪初,专注于国内湿法设备及氟类塑料制品的研发与生产,产品主要应用于半导体、太阳能光伏、电子、化工等行业。 华林科纳半导体设备部华林科纳半导体设备部已输送到客户端运行的设备超过3000套。 设备部主要供应的刻蚀工艺17种,清洗工艺7种。 供应客户中,硅晶圆产线占比15%,...
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司 主营产品:硅片清洗机 产品展厅 清洗设备 半导体常见干燥方式应用对比 新型实验室自动配液机 完美解决人工配液难题 异质结高效电池HJT HIT制绒清洗设备 外延片清洗机 兆声波清洗机 金属剥离清洗机 RCA湿法腐蚀清洗机设备
扫码添加微信,获取更多半导体相关资料摘要通过使用多级等离子体蚀刻实验设计、用于蚀刻后光致抗蚀剂去除的替代方法,以及开发自动蚀刻后遮盖物去除顺序;一种可再现的基板通孔处理方法被集成到大批量GaAs制造中。对于等离子体蚀刻部分,使用光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)来确定缺陷密度和通孔尺寸。使用光学显微镜、SEM和俄歇...
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立于2008年3月,总投资4500万元。位于有着“人间天堂”之称的古城苏州。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。 华林科纳地处环境优美的苏州工业园区,依托中科院纳米所...
华林科纳(江苏)半导体设备有限公司始终围绕客户需求,以解决问题的态度,凭借多年积累的技术优势和丰富的实践经验,分别在清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统等广泛领域,为各行业提供针对性解决方案,满足不同客户日益丰富的个性化需求。同时,华林科纳在求新求变的过程中,以“更加贴近”客户的服务理念,用更优质的服...
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业有限公司合资成立于2008年3月。投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。 公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,整合华林伟业在相关行业多年的设备...
半导体工艺-光刻(Lithography)——华林科纳CSE 光刻的作用是把掩模版上的图形转换成晶圆上的器件结构,它对集成电路图形结构的形成,如各层薄膜的图形及掺杂区域等,均起着决定性的作用。 光刻的基本流程:前处理——涂胶——对版曝光——显影——显影检查——后烘——腐蚀——腐蚀检查——去胶——检验归批。前处理...