> 可以编辑40多个菜单,每个菜单可有50步 > 可变量数据输入(时间、温度、速度等) > 设备背面安装第二个触摸屏—选项 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
半导体兆声清洗机—华林科纳CSE Mega sonic cleaning machine 华林科纳CSE-兆声清洗机适用于硅晶片蓝宝石晶片砷化镓晶片磷化铟晶片碳化硅晶片石英晶片 可处理晶片尺寸2'-8'; 可处理晶圆材料:硅砷化镓磷化铟氮化镓碳化硅铌酸锂钽酸锂等; 主要应用领域:半导体太阳能光伏液晶等 ...
CSE系列的气动风囊泵非金属部分的采用PTFE和PFA的材质。可承受最高工作温度100°C,允许的空气供应压力高达7公斤(100psi)。该系列气动风囊泵有三种型号HF-N30、HF-N60、HF-N140,最大流量为30、60和140升/每分钟, 流动介质 纯水、化学液体、空气、氮气 主要应用于电子半导体产业、生物化学产业、医药制品生产线、...
华林科纳cse 泛半导体知识分享平台 第一代半导体材料主要用于分立器件和芯片制造;第二代半导体材料主要用于制作高速、高频、大功率以及发光电子器件,也是制作高性能微波、毫米波器件的优良材料,广泛应用在微波通信、光通信、卫星通信、光电器件、激光器和卫星导航等领域。第三代半导体材料广泛用于制作高温、高频、大功率和...
申请人: 苏州华林科纳半导体设备技术有限公司 办理/代理机构: 柜台办理 商标进度 注册申请 2008-04-08 初审公告 2010-03-27 已注册 2010-06-28 终止 2020-06-27 商标信息 商标图案 商标名称 华林科纳;CSE 国际分类 第07类-机械设备 商标状态 商标转让 申请/注册号 6645516 申请日期 2008-04-08 ...
详细介绍 华林科纳—CSE 半导体器件设备-单晶圆清洗设备适用于薄晶圆(到80 μm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不受损毁。设备品牌:华林科纳—CSE 制造厂商:苏州华林科纳半导体设备技术有限公司搜...
华林科纳CSE实验室 湿电子化学品工作站 匀胶台显影机QDR清洗干燥 湿电子化学品工作站 匀胶台 显影机 QDR清洗 干燥
苏州华林科纳半导体设备有限(CSE)公司在苏州市注册成立,成立于,本公司主要业务其他清洗、清理设备, 扫地机,公司产品广泛应用于,如有需求可来电咨询苏州华林科纳半导体设备有限(CSE)公司。 详细资料 公司邮编:215300注册时间:2001-5-8 公司所在省:江苏公司所在城市:苏州 ...
在开发用于口腔种植体表面处理的高可靠性生产解决方案上,南通华林科纳半导体设备CSE拥有丰富的专业知识,还能利用广泛的口腔种植体密封、转移和加工的工艺技术诀窍。生产的设备为口腔种植体的刻蚀、正常化处理、钝化、净化和阳极氧化等湿化学法而设计,将各种表面处理步骤集于一台紧凑的模块化机器。为了尽可能改善口腔种植...
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