光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是一种光刻胶是一种对光敏感的混合液体,通过光化学反应经曝光、显影等光刻工序,将所需要的微细图形从光罩(掩膜版)转移到待加工基片上,广泛应用于半导体、显示面板、PCB(印刷电路板)等领域。其核心原理是利用光引发剂在特定波长光照射下产生活性物质,引发光敏性树脂在光照下发生...
耐化学性(Chemical Resistance):指光刻胶在制程中所能承受的化学处理,如腐蚀剂、清洗剂等的抵抗能力。 干膜厚度(Dry Film Thickness):指涂覆在基片上的光刻胶的厚度,直接影响着最终图案的尺寸和形状。 热稳定性(Thermal Stability):指光刻胶在高温处理过程中的稳定性,如烘烤、退火等...
光聚合型光刻胶采用烯类单体,在光作用下生成自由基,进一步引发单体聚合,最后生成聚合物; (光聚合反应示意图) 光分解型光刻胶,采用含有重氮醌类化合物(DQN)材料作为感光剂,其经光照后,发生光分解反应,可以制成正性光刻胶;光交联型光刻胶采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的...
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,也称为光敏胶,是一种对光敏感的胶状物质。光刻胶在特定波长的光线照射或辐射后,其溶解度会发生相应的变化。利用光刻胶光化学反应,在光刻工艺中将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上。光刻胶是微细加工技术的关键性材料,广泛应用于集成电路、印制电路板、平板显示、...
光刻胶在光刻工艺中用作抗腐蚀涂层材料，通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束或X射线等光源照射后，其溶解度会发生变化，从而实现微纳图形的转移.02 光刻胶产业链 光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。在芯片制造材料成本中的占比高达12%，是继大硅片、电子气体...
一、南大光电：光刻胶界的“老大哥”首先啊，咱们的说说南大光电。这家公司在光刻胶领域那可是赫赫有名，可以说是“老大哥”级别的存在。它研发和生产的光刻胶产品不仅性能优异，而且广泛应用于半导体、消费电子、汽车电子等领域。南大光电啊，不仅在国内市场混得风生水起，在国际市场上也有一定的影响力。它的光刻...
光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻...
1、正光刻胶应用：正光刻胶常用于制作晶体管、集成电路、MEMS器件等需要高精度图形的领域。在芯片制造中，正光刻胶用于定义电路结构、金属线路、衬底等，保证芯片的功能正常运行。2、负光刻胶应用：负光刻胶常用于制作微流体芯片、生物芯片、光子器件等需要微细结构的领域。在MEMS器件的制备中，负光刻胶可以用于...