折叠光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以制成正性胶。 折叠光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。家孙矿粉...
所以啊，这光刻胶的重要性，那可是不言而喻的。然而，让人郁闷的是，这光刻胶的技术门槛啊，比光刻机还要高！全球范围内，能够生产高端光刻胶的企业寥寥无几，简直就是“凤毛麟角”。而那些能够生产光刻胶的企业呢，也是把技术捂得严严实实的，生怕被别人学了去。这就导致了一个尴尬的局面：咱们国内虽然...
耐化学性(Chemical Resistance):指光刻胶在制程中所能承受的化学处理,如腐蚀剂、清洗剂等的抵抗能力。 干膜厚度(Dry Film Thickness):指涂覆在基片上的光刻胶的厚度,直接影响着最终图案的尺寸和形状。 热稳定性(Thermal Stability):指光刻胶在高温处理过程中的稳定性,如烘烤、退火等...
在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。下图展示了光刻胶如何在一个NMOS三极管的制造工艺中发挥作用。NMOS三级管是半导体制程工艺中最常用的集成电路结构之一。 (一种 NMOS 三极管集成电路结构的制造过程) ...
半导体光刻胶进一步细分为g线、i线、k胶、A胶和EUV胶。在全球光刻胶细分市场中，ArF光刻胶与KrF光刻胶共同占据了超过80%的市场份额。随着光刻胶的感光波长从g线的紫外宽谱逐渐转向EUV胶，集成电路的集成密度得以提升，从而满足了市场对半导体产品小型化和功能多样化的需求。光刻胶分类：资料来源：行行查 光刻胶...
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,也称为光敏胶,是一种对光敏感的胶状物质。光刻胶在特定波长的光线照射或辐射后,其溶解度会发生相应的变化。利用光刻胶光化学反应,在光刻工艺中将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上。光刻胶是微细加工技术的关键性材料,广泛应用于集成电路、印制电路板、平板显示、...
光刻胶是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用: a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面… 华林科纳cse 科普| 光刻胶的研究进展 光刻技术是集成电路芯片制造工艺中的一个重要步骤。该步骤借助光致抗蚀剂(光刻...
光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻...