负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨;曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 例如一款负胶的主要成分: 正性光刻胶。树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解抑制剂存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中;感光剂是光敏化合物(PAC,Photo Active Compound),最常见的是重氮萘醌(DNQ
1)增感剂(光引发剂):是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。 2)感光树脂(聚合剂):用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。 3)溶剂:是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响...
光刻胶的成分主要分为正胶和负胶两种类型。 正胶成分:通常由光敏剂、树脂和溶剂组成。以常见的DQN双组分体系为例,包含酚醛树脂(Novolac)、光敏剂重氮醌(DQ)和溶剂二甲苯。 负胶成分:主要由聚合物单体、光敏剂和溶剂构成。例如SU-8光刻胶,包含SU-8单体、三芳基硫盐光敏剂和溶剂PGMEA。 正胶曝光后显影时被去除,...
1.光敏剂:光刻胶的主要成分之一,能够吸收特定波长的光线,从而引发化学反应。光敏剂的种类很多,常见的有二氧化钛、二苯乙烯、环氧化合物等。 2.树脂:光刻胶的主要成分之一,负责固化和形成光刻胶膜。树脂的种类很多,常见的有环氧树脂、丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂等。 3.溶剂:用于稀释光刻胶,使其达到适合加工的粘度...
1.2 ► 光刻胶成分协同作用 负性电子束光刻胶主要由含有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚合物组成。其中，COP胶是应用最广泛的一种。这种光刻胶在加速电压为10KV时，具有0.3至0.4微库仑每平方厘米的灵敏度，1.0微米的分辨率，以及0.95的对比度。然而，光刻胶在显影时的溶胀现象是限制其分辨率的主要因素。...
光刻胶 光刻胶是一种对光敏感的混合液体,主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成。这些成分在光刻过程中协同作用,使得光刻胶能够精确地将电路设计图案转移到晶圆或其他基片上。光刻胶广泛应用于半导体制造、微电子器件制作、印刷电路板制造以及光学仪器制造等领域。它是半导体制造过程中用来制作集成电路的关键...
光刻胶是通过光学成像原理来实现预期的纹理结构。当光照射在光刻胶表面时,会通过掩膜上的白色区域透过黑色区域,达到将图案映射到光刻胶上的目的。通过开发过程,只剩下光刻胶上所需的微型器件的部分区域,即可形成要制造的微型器件。 3、选择适合的溶剂 光刻胶的成分包括光敏材料、单体、溶剂和剂量。反应关键因素之一...
光刻胶主要由4种成分组成。（1）感光剂。感光剂是光刻胶的核心部分，感光剂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。曝光时间、光源所发射光线的强度都根据感光剂的特性来决定。（2）增感剂。感光剂的感光速度都较慢，生产上效率太低，因此向光...
一、光刻胶的核心成分及其作用 光刻胶是半导体制造中的关键材料,其成分设计直接影响图案转移的精度。主要包含以下四类物质: 1. 树脂(聚合物基体) - 占比约60%-90%,决定胶膜的机械强度和耐蚀刻性。例如,248nm光刻胶常用聚对羟基苯乙烯(PHOST),含碳(C)、氢(H)、氧(O)元素;极紫外(EUV)光刻胶则引入金属...