加工设备 光刻机,刻蚀系统,蒸发镀膜设备等 生产线数量 10+ 光刻晶圆 8寸,12寸 刻蚀材料 硅,氧化硅,氮化硅,金属,石英等 镀膜基底 硅片,石英玻璃片,蓝宝石片,PET,Pi等 键合技术 阳极键合,共晶键合,胶键合 光刻机品牌 ASML,Nikon 镀膜设备 电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD原子层沉积 产品...
$汇成真空(SZ301392)$镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备(光刻、刻蚀和镀膜)之一,对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网,公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面,形成对复杂形貌的基底表面全覆盖成膜的方法,...
除了光刻、薄膜沉积以及刻蚀三大核心工艺外，其他前道设备虽然占比不高，但同样不可或缺。从芯片制造工艺...
一,光刻 光刻是半导体制造中的一个核心步骤,用于将电路图案从掩模(mask)转移到硅片上.这个过程涉及使用紫外光或其他光源通过掩模照射涂有光刻胶的硅片,光刻胶在曝光后会发生变化(变得可溶或不溶),然后通过化学处理去除部分光刻胶,形成与...
职责描述: 负责光刻/镀膜/刻蚀/晶圆键合/三维封装工艺研发工作。 任职要求: 1、本科及以上学历; 2、微电子与固体电子学、电子科学与技术、凝聚态物理、材料物理与化学等相关专业; 3、社招人员需有半导体同岗位至少1年工作经验。 公司简介 南京国兆光电科技有限公司是央企中国电科第五十五研究所下属单位,高新技术企业...
光刻：为整个晶圆代工流程中最重要的工序之一。其原理是在晶圆片表面覆盖一层具有高度光敏感性光阻剂，再...
微纳线路刻蚀金属镀膜掩膜光刻代工是一项复杂的工艺,需要精确的设备和专业的技术。这种代工服务通常由专业的微电子制造公司提供,因为它们拥有所需的设备、技术和经验来完成这些工艺步骤。这种代工服务在微纳电子领域中被广泛应用,例如集成电路、传感器和微机械系统等的制造。©...
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$万业企业(SH600641)$ 看点:离子注入机与光刻机、刻蚀机和镀膜机并称四大核心装备,开发难度仅次于光 刻机。 高壁垒造就了高的行业集中度,整个市场主要由美国厂商垄断,全球第一大和第二大离子注入机厂商美国 应用材料公司 和美国Axcelis公司合 计占据全球70%以上的市场。
镀膜 光刻: 1.步进式光刻机调试及新工艺导入、手动光刻机碎片新工艺开发; 2.crak自动匀胶显影机工boss艺调试、overlay/AOI/CD SEM镜检规范制定; 3.国产化等新工艺开发验证,工艺整合集成(PIE) 刻蚀: 1.负责常规定制产品(长波)及新材料体系的刻蚀角度直聘、线宽及氛围调试验证等,例如InAs、GaSb、AlSb等材料体系...