Si,Sio2的混合物中加NaOH，是同时反应，还是某一种物质先反应
Keywords:Fouriertransforminfrared(FTIR)spectroscopy;fusedsilica;Si―OH;measurementdynamicrange DOI:10.3969/j.issn.1003-501X.2017.10.008Citation:Opto-ElecEng,2017,44(10): 997−1003 1 引 言 Si―OH 是熔石英材料中的一种常见缺陷,对光学 性能和材料的结构有极大影响。在紫外石英中,Si― OH 键可以降...
共沉淀利用FTIR,SEM,TEM等手段,研究了预处理对Si_3N_4粉体表面基团,Zeta电位以及共沉淀法制备Si_3N_4-Al_2O_3-Y_2O_3复合粉体形貌的影响.结果表明:Si_3N_4粉体通过酸洗+950℃预氧化处理后,可以在粉体表面形成硅氧烷(Si-O-Si)基团,硅氧烷基团在强碱环境下水解为硅烷醇(Si-OH)基团,所得基团有利于吸附...
Si/Si直接键合界面的FTIR和XPS研究 通过新颖的键合方法实现了Si/Si直接键合.采用傅里叶红外透射谱(FTIR)对Si/Si键合界面进行了研究,结果表明,高温退火样品的界面组分为Si和O,无OH和H网络存在.X射线光电... 陈松岩,谢生,何国荣 - 《半导体光电》 被引量: 0发表: 2004年 Si/Si直接键合界面性质的研究 通过...
min时释放率达50%.FTIR分析表明微胶囊有Si-OH键生成.SEM表明微胶囊除了分布于木材导管中,还大量沉积在木材纹孔内.橡胶木防霉实验结果表明:随着微胶囊防霉剂质量分数... 李佳淇徐国祺秦韶山 - 《北京林业大学学报》 被引量: 0发表: 2022年 阻变纳米硅薄膜的制备及其阻变特性的研究 常规炉管式退火相结合可以得到均...
The acicular α-Al2O3 (width<4 μm, length<20 μm) obtained by the thermal decomposition of synthetic diaspore at 530, 600 and 1300°C was characterized by means of XRD, SEM, FTIR, 27Al MAS-NMR, XPS, nitrogen adsorption-desorption isotherm and BET surface area. The high adsorptive act...
Si—OH、Si02存在于硅及硅复合材料的表面,对硅及其复合材料的性能具有 很大的影响。例如Si—OH存在于多孔硅的表面,对多孔硅的发光性能、多孔硅 表面吸附爆炸等具有重要的意义;在硅器件中,硅片表面被氧化形成Si02影响 硅片表面薄膜的沉积,进而影响器件的性能。由于物质的微观结构决定了其各 ...
摘要: 通过新颖的键合方法实现了Si/Si直接键合.采用傅里叶红外透射谱(FTIR)对Si/Si键合界面进行了研究,结果表明,高温退火样品的界面组分为Si和O,无OH和H网络存在.X射线光电子谱(XPS)测试结果进一步表明,界面主要为单质Si和SiOx混合网络,且随着退火温度的升高,界面层Si-Si直接成键的密度也越高.关键词:...
界面的化学态和键合键的形成机理。首先测量了高温键合样品的红外透射谱(FTIR),结果表明界面组分为Si和O,无OH和H网络存在,这使得对劈裂Si表面作XPS(X射线光电子谱)测试的结果可直接用于界面研究。XPS对界面组成以及原子浓度随溅射深度和温度变化的结果与IR分析结果是相互印证的。
Millimeter-wave and high-resolution FTIR spectroscopy of SiH2F2: The ground and v4 = 1 states. J. Mol. Spectrosc. 2003, 218, 12–21. [Google Scholar] Demaison, J.; Margules, L.; Breidung, J.; Thiel, W.; Bürger, H. Ab initio anharmonic force field, spectroscopic parameters and ...