金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，长飞光纤光缆股份有限公司取得一项名为“一种PCVD工艺均匀沉积装置”的专利，授权公告号CN 222349127 U，申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本实用新型涉及一种PCVD工艺均匀沉积装置，包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头，两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动...
专利摘要显示，本发明涉及一种 PCVD 工艺均匀沉积系统及方法，包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头，两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动装置相连，在两个旋转密封夹头之间设置有微波谐振腔，微波谐振腔安设在保温炉中，所述的微波谐振腔通过波导伸出加热炉与微波发生装置及轴向往复装置相联，所述的两个旋转密封夹...
总结起来，pcvd微波等离子体化学气相沉积法是一种重要的光纤制备工艺，通过微波激发和化学反应，可以在光纤预制体上沉积所需的光纤材料。其步骤包括预处理、制备反应气体、沉积过程和后处理。由于其优良的性能，pcvd微波等离子体化学气相沉积法制备的光纤在通信、传感和激光等领域有着广泛的应用前景。
PCVD工艺的流程: (1)沉积。沉积过程借助低压等离子体使流进高纯度石英玻璃沉积管内的气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯中玻璃的组成成分。 (2)熔缩。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对小断旋转的管子加热到大约2200℃,在表面张力的作用下,分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒...
答: 等离子体 CVD 法 plasma chemical vapour-phase deposition (PCVD) 又称“内等离 子氧化法”、 “侧面横向火焰水解法”。用微波等离子体使石英基管内气态卤化物原料氧化 生成玻璃堆积膜层制造光纤坯棒的过程。 等离子体是由装在石英管外可迅速挪动的环形微波 腔发生的,这类微波等离体发生器的功率一般为 1000...
另外沉积效率高亦是PCVD 法的优点。 外汽相沉积法outside vapor-phase deposition (OVD)在靶棒外表面用汽相沉积技术制造光纤坯棒的方法。这种方法的工作过程如下,供料系统把一定组成的气态原料通到高温火焰中,原料经水解反应产生的玻璃微珠喷涂到一根旋转的靶棒表面,当燃烧器平行靶棒轴移动一个行程后,整个靶棒表面...
这种方式类似于离子镀膜、溅射镀膜等利用等离子体的工艺,它在PCVD装置内部通入大气时,器壁就会对水蒸气等杂质进行吸附,在等离子体作用之下,这些吸附杂质会沾污、解吸等离子体,导致产生对膜层质量较大的负面影响。所以PCVD真空设备更易受到污染,因此非常有必要使反应器处于较稳定高真空状态。
PCVD微波等离子体化学气相沉积法光纤工艺
证券之星消息,根据天眼查APP数据显示长飞光纤(601869)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种PCVD工艺均匀沉积装置”,专利申请号为CN202323404055.2,授权日为2025年1月14日。 专利摘要:本实用新型涉及一种PCVD工艺均匀沉积装置,包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头,两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动装置相连...
1.一种PCVD工艺均匀沉积系统,包括有同轴对应安设在床身两侧的旋转密封夹头,两侧的旋转密封夹头与同步旋转驱动装置相连,在两个旋转密封夹头之间设置有微波谐振腔,微波谐振腔安设在保温炉中,所述的微波谐振腔通过波导伸出加热炉与微波发生装置及轴向往复装置相联,所述的两个旋转密封夹头包括进气旋转密封夹头和排气旋转密封...