PCVD工艺的流程: (1)沉积。沉积过程借助低压等离子体使流进高纯度石英玻璃沉积管内的气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯中玻璃的组成成分。 (2)熔缩。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对小断旋转的管子加热到大约2200℃,在表面张力的作用下,分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒...
7.按权利要求1或2所述的pcvd工艺均匀沉积系统,其特征在于所述的保温炉设置气端、中间、泵端三个温度区域,各温度区域分别设置温度传感器。 8.按权利要求1或2所述的pcvd工艺均匀沉积系统,其特征在于所述固态微波源电源设置plc控制单元,根据微波谐振腔的位置对输出微波频率进行自动调节。 9.一种pcvd工艺均匀沉积方法,...
本发明涉及一种用于执行PCVD沉积工艺的方法,所述方法包括以下步骤:i)设置玻璃基管(substratetube);ii)向该玻璃基管供给一种或多种玻璃形成气体;iii)通过对该基管的至少一部分进行微波辐射来诱导等离子体以使一个或多个玻璃层沉积到该玻璃基管的内表面上。本发明还涉及一种用于执行PCVD沉积工艺的设备,其中使一个或...
2.如权利要求1所述的通过pcvd工艺制备光纤预制棒的装置,其特征在于:两个所述支撑单元相对的侧壁均固定连接有外环单元,所述配流单元的侧壁抵接转动于所述外环单元内; 3.如权利要求2所述的通过pcvd工艺制备光纤预制棒的装置,其特征在于:任意相邻两个所述环形槽之间均开设有环绕所述配流单元设置的凹槽,所述凹槽...
PCVD工艺的流程: (1)沉积。沉积过程借助低压等离子体使流进高纯度石英玻璃沉积管内的气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯中玻璃的组成成分。 (2)熔缩。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对小断旋转的管子加热到大约2200℃,在表面张力的作用下,分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒...
本发明涉及光纤生产的技术领域,具体涉及到一种提高pcvd工艺沉积均匀性的方法。 背景技术: pcvd制备光纤预制棒工艺是利用等离子体化学气相沉积方法,在高纯石英玻璃管内进行气相沉积和高温氧化反应,反应气体为sio2,o2、gecl4和c2f6少量掺杂剂。反应所用热源是微波,其反应机理为微波激活气体产生等离子体使反应气体电离,电离...
pcvd工艺沉积制备光纤预制棒,每一层沉积层厚度可控制在微米级,能非常精确控制折射率剖面分布,预制棒轴向参数均匀性也可以有效优化。但pcvd工艺作为管内法的一种,混合气体在管内由进气端向出气端运动,管内轴向分布上各点的组分、压力、密度存在细微差异,从而影响预制棒轴向参数一致性,随着大直径、高沉积速率的预制棒制...