PCVD沉积馈膜过程主要包括“等离子体物理”和“等离子体化学”两个方面的内容：等离子体物理是指低压气体辉光放电过程；等离子体化学是指不均匀的气固表面发生的多相化学反应。等离子体化学反应是通过高能电子与分子碰撞使之激发、离解、电离，在非热平衡状态下进行的化学反应。而热化学反应是通过热能激活反应物质，在热...
1. 高性能:PCVD法沉积的氟管具有优异的耐腐蚀性、耐高温性和绝缘性能,能够满足复杂工况下的使用需求。 2. 均匀性好:由于等离子体激活反应气体的均匀性,使得沉积在基体表面的氟管层厚度均匀,提高了产品的整体性能。 3. 工艺可控性强:PCVD技术可以通过调整工艺参数,...
首先将简要介绍PCVD技术和光纤预制棒的概念与作用,然后详细讲解光纤预制棒PCVD的基本原理。接着将在第三部分概述说明中,探讨原始材料选择与准备、预制棒成型过程以及PCVD工艺参数调控与优化等关键问题。最后,在结论部分总结主要观点和论点,并展望了光纤预制棒PCVD未来的发展方向。 1.3 目的 本文旨在全面深入地介绍光纤预制...
长飞光纤取得一种PCVD工艺均匀沉积装置专利，有效提高沉积衬管质量 金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，长飞光纤光缆股份有限公司取得一项名为“一种PCVD工艺均匀沉积装置”的专利，授权公告号CN 222349127 U，申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本实用新型涉及一种PCVD工艺均匀沉积装置，包括有同轴对应...
PCVD 网络 等离子体化学气相沉积法; 等离子体化学汽相沉积法; 猪圆环病毒病; 化学气相沉积; 等离子体化学气相沉积
1.等离子体化学气相沉积法(PCVD) PVCD 是借助等离子体内的高能电子与反映气体原子,分子发生非弹性碰撞使之离解或电离, … www.docin.com|基于304个网页 3. 等离子体化学汽相沉积工艺 ...轴向沉积法(VAD)、改进汽相沉积法(MCVD)和等离子体化学汽相沉积工艺(PCVD)。
（1）PCVD技术可以在更低温度下进行薄膜沉积。如TiC、Ti（CN）、TiN 和 SizN的反应温度分别在700K、550K、520K 和530K，而TCVD技术则需要在更高温度，如1200K、1000K、900K 和1200K。PCVD技术之所以能实现低温成膜，得益于非平衡等离子体中电子能量的激发，使气体分子离解，形成活性离子和基团，...
相似单词 PCVD【化】 等离子化学气相沉积 最新单词 disimmune是什么意思及用法免疫性消失的 disilthianoxy的中文翻译及用法二硅噻烷氧基 disiloxane的中文翻译及用法二甲硅醚 disillusionment的中文翻译及音标n. 1.醒悟;理想破灭 disillusionize是什么意思v. 觉醒;幻灭 ...
微波等离子体（PCVD, MPCVD）中的测温需求 微波等离子体 CVD（Microwave PCVD, MPCVD）利用微波发生器产生的微波通过波导管进入反应器，并通入 CH4 与 H2 的混合气体。在微波的激励下，反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，形成等离子体，从而在衬底上沉积形成金刚石膜。由于被测物被等离子云包裹，在多次...