微波等离子体 CVD（Microwave PCVD, MPCVD）利用微波发生器产生的微波通过波导管进入反应器，并通入 CH4 与 H2 的混合气体。在微波的激励下，反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，形成等离子体，从而在衬底上沉积形成金刚石膜。由于被测物被等离子云包裹，在多次加热的工况中，每次测量的数据重复性和稳定性...
PCVD和PECVD是两种常用的薄膜沉积技术，它们在半导体制造和材料科学领域有着广泛的应用。PCVD，即等离子体化学气相沉积，是一种在低温条件下进行薄膜沉积的方法。它利用等离子体活化气体分子，以促进反应物分子间的化学反应，从而形成薄膜。PCVD工艺简单，成本较低，适用于多种材料的沉积，尤其是在低温敏感材料...
PCVD沉积馈膜过程主要包括“等离子体物理”和“等离子体化学”两个方面的内容：等离子体物理是指低压气体辉光放电过程；等离子体化学是指不均匀的气固表面发生的多相化学反应。等离子体化学反应是通过高能电子与分子碰撞使之激发、离解、电离，在非热平衡状态下进行的化学反应。而热化学反应是通过热能激活反应物质，在热...
首先将简要介绍PCVD技术和光纤预制棒的概念与作用,然后详细讲解光纤预制棒PCVD的基本原理。接着将在第三部分概述说明中,探讨原始材料选择与准备、预制棒成型过程以及PCVD工艺参数调控与优化等关键问题。最后,在结论部分总结主要观点和论点,并展望了光纤预制棒PCVD未来的发展方向。 1.3 目的 本文旨在全面深入地介绍光纤预制...
答: 等离子体 CVD 法 plasma chemical vapour-phase deposition (PCVD) 又称“内等离 子氧化法”、 “侧面横向火焰水解法”。用微波等离子体使石英基管内气态卤化物原料氧化 生成玻璃堆积膜层制造光纤坯棒的过程。 等离子体是由装在石英管外可迅速挪动的环形微波 腔发生的,这类微波等离体发生器的功率一般为 1000...
1.等离子体化学气相沉积法(PCVD) PVCD 是借助等离子体内的高能电子与反映气体原子,分子发生非弹性碰撞使之离解或电离, … www.docin.com|基于304个网页 3. 等离子体化学汽相沉积工艺 ...轴向沉积法(VAD)、改进汽相沉积法(MCVD)和等离子体化学汽相沉积工艺(PCVD)。
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PCVD,即等离子体化学气相沉积,是一种先进的薄膜制备技术。在氟管沉积过程中,该技术利用等离子体激活反应气体,使其在低温条件下发生化学反应,从而在基体表面沉积形成氟管。这种方法制备的氟管具有结构致密、性能稳定等优点。 二、PCVD法沉积氟管的特点 1. 高性能:PCV...
PCVD技术与TCVD技术相比,具有以下特征。 (1)可以在更低的温度下成膜。如沉积 TiC、Ti(CN)、TiN 和 SizN的反应温度可分别在700K、550K、520K 和530K下进行,而用常规化学气相沉积则分别要在1200K、1000K、900K 和1200K 以上。PCVD 之所以能够在较低温度下进行,是因为在等离子体化学气相沉积的情况下,不是靠...