Si-Gel PCVD设备采用等离子增强化学气相沉积技术,通过在低压下利用射频或微波激发气体产生等离子体,从而增强化学反应速率并促进材料在基材上的沉积。在Si-Gel PCVD设备中,特定的气体混合物被引入反应室,并在等离子体的作用下发生化学反应,生成硅基凝胶薄膜。这种凝胶薄膜具有优异的物理和化学性质,如高透明度、良...
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@深圳市耐斯龙光纤光缆有限公司pcvd设备生产光纤 深圳市耐斯龙光纤光缆有限公司 PCVD设备生产光纤的过程主要是利用微波低压等离子体作为反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒。这种方法具有极高的折射率分布控制精度、高的沉积效率和自由调整折射率分布结构的灵活性,因此适合用来生产各种类型的光纤,包括折射率分布结构复杂的...
山东大学硕士学位论文PCVD等离子体化学气相沉积设备研制姓名:罗彦芳申请学位级别:硕士专业:电力电子及电力传动指导教师:安德祥000.11.8
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