NXE:3400光刻机的曝光速度非常快,可以达到每秒数百万次曝光,从而实现高通量的芯片制造。高通量的制造方式可以大幅提高芯片的生产效率和降低制造成本。 二、应用场景 NXE:3400光刻机主要应用于制造高端集成电路芯片,如DRAM、NAND Flash、微处理器等。这些芯片...
NXE:3400B是ASML生产的一款EUV光刻机型号,它支持7纳米和5纳米节点的EUV量产,每小时处理晶圆数不低于125片。不过我们主要专注于高稳定性半导体激光器和固体激光器的研发、生产和销售,如果您对这些产品有兴趣,可以随时联系我们哦。