1.Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.5µm 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.5µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 曝光现场20mm*20mm ...
现怀着十足的诚意，面向广大需求者出售一台性能卓越的二手半导体设备——NIKON NSR 2005i8A 光刻机。这台光刻机在半导体制造领域曾立下赫赫战功，凭借其精湛的工艺和稳定的性能，为众多生产环节提供了强大的支持。NIKON 作为行业内的知名品牌，其 NSR 2005i8A 光刻机在技术层面具备诸多优势，它采用了先进的光刻技...
光刻机NSR-2005 I8A用于集成电路生产中的微光刻工艺。是用来将掩膜版上形成的集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复投影成像在晶圆表面上。 该机含有晶圆自动传输系统、版库自动管理系统、可编程掩膜版光栏、自动调焦调平、晶圆自动对准、掩膜版自动对准、镜头倍率控制、自动光量控制、图形自动优化设计...
型号 NSR G8A,1755 I7,2005I8A 加工定制 否 新旧程度 二手 库存数量 1,2,1 晶圆大小 8英寸(G8A),4/6英寸(1755) 厂房洁净等级 100级(1755),1000级(2005I8A) 投影镜头 5:1(G8A,1755 I7) 湿度 ≤70%(1755 I7,2005I8A) 温度范围 10~25℃ 发货地 青岛 供货区域 全国 产品名 Nikon步...
型号 NSR G8A,1755 I7,2005I8A 加工定制 否 新旧程度 二手 库存数量 1,2,1 晶圆大小 8英寸(G8A),4/6英寸(1755) 厂房洁净等级 100(1755),1000级(2005I8A) 投影镜头 5:1(G8A,1755 I7) 湿度 ≤70%(1755 I7,2005I8A) 温度范围 10~25℃ 销售 全国 产品名称 尼康Nikon 介质 机械 适...
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Nikon NSR 2005i8A 1.Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.5µm 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.5µm N.A.0.6 曝光光源365nm 倍率5:1 最大曝光现场20mm*20mm 对准精度LSA:120nm FIA:130nm 3...
Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备,该机型采用优良的步进光刻技术,能够实现高分辨率和高精度的图案转移,广泛应用于集成电路(IC)、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度,Nikon NSR 2005i8A非常适合大批量生产,同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功...
Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机供应商: 研启科学仪器(东莞)有限公司 联系人: 余纯博 电话: 18772609610 传真: 地址: 广东深圳市详细信息Nikon NSR 2005i8A 1.Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机 光源波长365nm 分辨率优于0.5µm 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等...
Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机是一款高精度的半导体制造设备,该机型采用优良的步进光刻技术,能够实现高分辨率和高精度的图案转移,广泛应用于集成电路(IC)、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其良好的成像质量和快速的曝光速度,Nikon NSR 2005i8A非常适合大批量生产,同时其用户友好的操作界面和高效的自动化功...