尼康基于开创性的Streamlign平台开发了 NSR-S620D,不仅可以实现 32 nm 的双图案光刻,还可以为下一代应用提供可扩展性。随后是进化型 NSR-S621D、S622D、S630D 和 S631E 浸入式扫描仪,适用于低至 7 nm 节点及以上节点的应用。
#8683-26 Mix-and-Match Overlay Performance of the NSR-S622D Immersion Scanner #8683-53 Comprehensive Thermal Aberration & Distortion Control of Lithographi Lenses for Accurate Overlay #8683-55 High-Productivity Immersion Scanner Enabling 1x nm hp Manufacturing SPIE Advanced Lithography 2012 #8322-40...
NSR-S621D 已开发用于大批量制造 22 nm 工艺节点(能够通过进一步提高久经考验的 NSR-S620D 的精度和生产率来处理双图案*1 )。尼康计划将 NSR-S621D 定位为其旗舰工具并扩大销售。 Nikon ArF浸没式光刻机NSR-S621D经过验证的Streamlign平台,实现了2nm的极高叠印精度和200wph的吞吐量,并在硬件和软件方面进一步...
Reduction ratio1:5 Exposure field22 mm square to 17.9 (H) × 25.2 (V) mm Alignment accuracy (EGA, |M| + 3σ)≦ 70 nm Alignment systemLSA (standard), FIA (optional), LIA (optional) Metrology/Inspection Systems Automatic Macro Inspection System AMI-5600/3500/3000 MarkⅡ ...