XPS光谱显示出Co- P和 Ni-P (图2a和2b)而解释了VZNP中磷化物的生成。随着温度的升高,Co-P和Ni-P的相对峰强度显著降低。这一结果进一步证明了温度的逐渐升高不利于磷化物的形成。样品的P 2p XPS谱显示磷酸盐离子的存在,表明这些离子是由表面磷化物氧化产生的(图2c)。XANES和EXAFS分析了纳米复合材料中金属元素的...
高分辨Ni 2p XPS谱显示出四组峰(图2a),其中856.0和873.9 eV特征峰分别对应着Ni2+的Ni 2p3/2和Ni 2p1/2。高分辨Ru 3d XPS谱显示出两组双峰介于280和290 eV之间(图2b),对应于Ru4+3d5/2和3d3/2以及它们的卫星峰。与RuO2相...
(d),(e) Pd/Ni(OH)2催化剂的Pd K-edge和Ni K-edge XANES光谱。(f),(g), Pd/Ni(OH)2催化剂的Pd 3d和Ni 2p的XPS谱。 对Pd/Ni(OH)2催化剂进行了HMFOR性能测试。LSV曲线显示其相比于商业Pd/C催化剂表现出更高的活性和稳定...
图2.形貌结构表征 XPS光谱显示出Co- P和 Ni-P (图2a和2b)而解释了VZNP中磷化物的生成。随着温度的升高,Co-P和Ni-P的相对峰强度显著降低。这一结果进一步证明了温度的逐渐升高不利于磷化物的形成。样品的P 2p XPS谱显示磷酸盐离子的存在,表明这些离子是由表面磷化物氧化产生的(图2c)。XANES和EXAFS分析了纳米...
图3. E-EL电极上C 1s、O 1s、F 1s 和 P 2p 核心能级的XPS光谱。 图4. E-EL电极表面上选定的二次离子碎片的TOF-SIMS深度剖面,其中深度通过标准SiO2 的溅射速率校准。(a) 溅射深度范围从0到200nm;(b)(c) 溅射深度范围从0到30nm,用SEI的多层结构表示。 图5. E-EL电极的3D TOF-SIMS数据的MCR分析结...
此外,高分辨V 2p XPS光谱表明,Pt-Ni3N@V2O3/NF催化剂的V(III)含量(21.7%)明显低于Ni3N@V2O3/NF催化剂(64.9%)(图2B)。这表明V2O3表面部分氧化,促进了Pt4+的原位还原。Pt-Ni3N@V2O3/NF中Pt金属和N 1s的特征峰也出现了正位移(图2C),进一步证实了Pt和Ni3N双活性位点之间的强相互作用。
contrast to 857.0 eV(Ni3+), How to explain that the Ni0 coexisted with Ni3+ in the Ni@C-N/SiO2? 展开 0评论 +关注 共5个回答 懂还是不懂我,给排水工程师 2019-03-18回答 有三价镍,也可以和2价共存, 19...
做XPS表征Ni时，检索峰时有一个峰是2p3/2,sat ，请问2p3/2,sat 是什么意思，表示的是什么？希望...
XPS反应的是非常表面信息，XRD是纯相的话，说明表面有变化而已，可以在做XPS之前用Ar离子轰击表面数秒，...
Our XPS results show that the near surface region consists of a large proportion of Ni(OH)2. In addition, the sample contains Na and Cl in small quantities. The presence of Na and Cl is probably an artifact of sample preparation procedures. 展开 关键词:...