Ni2p的XPS分峰结果显示,材料中的Ni3+含量远高于Ni2+的含量,Ni3+含量也随着制备条件的改变而有所变化。在OER过程中,高含量Ni3+的存在有利于形成NiOOH,促进OER反应的进行。 图3. a) 不同Ni3S4样品的XPS谱图,b) NM50-Ni3S4的Ni 2p...
Element: Ni Formula: NiO XPS Formula: Ni*O Name: nickel(II) oxide CAS Registry No: ...
我们在气液界面组装了不同厚度的Ni 3(HITP)2薄膜(HITP 3-=2,3,6,7,10,11‑六亚氨基三亚苯),并将制备的薄膜转移到导电玻璃表面。利用X 射线衍射(XRD)、场发射透射电子显微镜(FETEM)、场发射扫描电镜(FESEM)、X 射线光电子能谱(XPS)和拉曼光谱对样品的晶体结构、微观形貌和元素组成进行表征,采用...
将其与半导体mn0.5cd0.5s和半导体catio3形成的s型异质结构复合制得mn0.5cd0.5s/catio3/ni3c复合型光催化剂,该复合型光催化剂中mn0.5cd0.5s、catio3与ni3c的质量比为1:0.01-0.2:0.01-0.1;xrd中在26.67°、44.17°、52.18°存在衍射峰;xps中在640.55ev、651.98ev、404.61ev、411.34...
XPS结果显示催化剂中的Ni以Ni0、Ni2+和Ni3+形式存在。随着Ni的引入,催化剂中Fe的Fe-O峰结合能相较于纯Fe3O4出现偏移,表明Ni/Fe3O4界面上存在强烈的电子相互作用。价带谱结果证明异质界面形成使Ni/Fe3O4/IF催化剂中离域电子丰度增高。XANES和EXAFS结果也表明,界面桥接的Ni-O键诱导电子从Ni转移到Fe3O4,...
有三价镍,也可以和2价共存,
采用X光电子能谱(XPS)和脉冲反应技术考察了973K下经不同方法处理后的Ni/Al2O3催化剂表面的积碳,单独用CH4或CO处理后的催化剂在283.6eV左右出现了一个新的Cls峰,可归属为金属碳化物,对CH4,CO处理过的催化剂用CO2处理后发现,结合能约为283.6eV的Cls峰强度明显降低,但由CO处理的催化剂的积碳的活性不如由甲烷生...
如果是负载型的氧化镍的话, 不能只根据结合能来区分NiO还是Ni2O3, 还要看看载体\焙烧温度等方面的...
摘要: 以XPS表征了LaMO3(Fe,Co,Ni)晶体表面氧的性质,区分了XPS谱中二种O1s峰,由O吸峰的相对强度获得了LaMO3表面吸附O2性能的变化规律,并得到了O2吸附量(脉冲法)实验结果的映证。CO氧化反应活性测定发现:300℃下,LaMO3活性顺序为LaCoO3〉LaNiO3〉LaFeO3,与其O2吸附量大小顺序相一致。 展开 ...
图9示出了在142.61ev和137.76ev处检测到的pb4f的xps峰,它们分别表示pb4f5/2和pb4f7/2的自旋轨道分裂,双峰分裂为4f7/2和4f5/2分量,其间隔为d=4.85ev。相比之下,值得注意的是,与纯的pbtio3样品相比(即图中的rawdata所代表的数据),实施例1的掺杂ni的pbtio3的pb4f峰明显移向更高的结合能。结果表明,铅原子...