那实际的process如果发现BV变小,并且确认是从junction走的,那好好查查你的Source/Drain implant了。 3、 Drain-》Gate击穿 这个主要是Drain和Gate之间的Overlap导致的栅极氧化层击穿,这个有点类似GOX击穿了,当然它更像 Poly finger的GOX击穿了,所以他可能更care poly profile以及sidewall damage了。当然这个Overlap还有...
MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)有三个主要电极,分别是栅极(Gate)、漏极(Source)和源极(Drain)。这三个电极的区分方法如下: 1. 栅极(Gate):栅极是MOSFET的控制电极,用于控制MOSFET的导通与截止。栅极一般用来接收控制信号,通过控制栅极电压的大小,可以调节MOSFET的导通程度。 2. 漏极(Source):漏极是MOSFET...
MOS,是MOSFET的缩写。MOSFET金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。一般是金属(metal)—氧化物(oxide)—半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。G:gate栅极;S:source源极;D:drain 漏极。 MOS管的sour...
那实际的process如果发现BV变小,并且确认是从junction走的,那好好查查你的Source/Drain implant了 3) Drain-》Gate击穿:这个主要是Drain和Gate之间的Overlap导致的栅极氧化层击穿,这个有点类似GOX击穿了,当然它更像 Poly finger的GOX击穿了,所以他可能更care poly profile以及sidewall damage了。当然这个Overlap还有个问...
两块N区的距离定义为栅长L,垂直方向定义为栅宽W。MOS管除了我们常规看到的Gate Drain Source三个极之外,还存在一个B极代表衬底的电位。在板极应用中,我们看到的MOS管衬底和Source端是接在一起的,所以源极Source和衬底的电位是一致的。这也引出了MOS管体二极管的概念。
分享功率MOSFET基本结构：平面结构 功率MOSFET即金属氧化物半导体场效应晶体管（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor）有三个管脚，分别为栅极（Gate），漏极（Drain）和源极（Source）。功率MOSFET为电压型控制器件，驱动电路简单，驱动的功率小，而且开关速度快，具有高的工作频率。常用的MOSFET的结构有：...
功率MOSFET即金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)有三个管脚,分别为栅极(Gate),漏极(Drain)和源极(Source)。功率MOSFET为电压型控制器件,驱动电路简单,驱动的功率小,而且开关速度快,具有高的工作频率。常用的MOSFET的结构有:横向导电双扩散型场效应晶体管LDMOS(Lateral Doub...
功率MOSFET即金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)有三个管脚,分别为栅极(Gate),漏极(Drain)和源极(Source)。功率MOSFET为电压型控制器件,驱动电路简单,驱动的功率小,而且开关速度快,具有高的工作频率。常用的MOSFET的结构有:横向导电双扩散型场效应晶体管LDMOS(Lateral Doub...
Source、Drain、Gate 场效应管的三极:源级S 漏级D 栅级G (这里不讲栅极GOX击穿了啊,只针对漏极电压击穿) 先讲测试条件,都是源栅衬底都是接地,然后扫描漏极电压,直至Drain端电流达到1uA。所以从器件结构上看,它的漏电通道有三条:Drain到source、Drain到Bulk、Drain到Gate。
MOSFET 的三端标记分别为 G, S, D(Gate, Source, Drain), 电路符号有多种形式, 最常见的如下图所示, 以一条垂直线代表沟道(Channel), 两条和沟道平行的接线代表源极(Source)与漏极(Drain), 左方和沟道垂直的接线代表栅极(Gate). 有时也会将代表沟道的直线以虚线代替, 以区分增强型(enhancement mode)MOSF...