日本电子JEOL电子束光刻系统JBX-6300FS,在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zui细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形...
型号 JBX-6300FS 货号 JBX-6300FS 全国欢迎咨询 13622399570现金高价工厂个人闲置,全新二手各种二手电子仪器仪表·测试仪·检测仪器欢迎咨询本公司专业各类二手进口仪器仪表 品牌:包括Keysight是德技、Agilent安捷伦、R&S罗德与施瓦茨 、HP惠普、Fluke福禄克、Anritsu安立、Yokogawa横河、Advantest爱德万、...
回收jeol公司JBX-6300FS电子束光刻系统 价格 ¥ 10000.00 ¥ 10000.00 起订数 1台起批 1台起批 发货地 广东深圳 商品类型 机械设备 、 电子产品制造设备 、 其他电子产品制造设备 商品关键词 回收、 仪器、 工控、 实验设备、 机械设备 商品图片 商品参数 品牌: jeol 高价: 回收 不限: 地区 ...
• Practical Solutions in Electron Beam Lithography with the JBX-9500FS and the JBX-6300FS• Development of New Operando Measurement System by Combining Reaction-Science High-Voltage Electron Microscopy and Quadrupole Mass Spectrometry• Development of Low-Voltage TEM/STEM for Single Carbon Atom ...
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用最细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特...
日本电子JEOL电子束光刻系统JBX-9500FS,是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zui高水平的产出量和定位精度,zuida能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 详细介绍 日本电子JEOL电子束光刻系统JBX-9500FS JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系...
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特...
JBX-6300FS 电子束光刻系统 JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm...
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特...
JBX-6300FS 电子束光刻系统 JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm...