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JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界最高水平的产出量和定位精度,最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 此外,由于具有100MHz的最快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置...
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JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品特点: JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界最高水平的产出量和定位精度,最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品规格: 电子枪 ZrO/W 肖特基型 描画方式 圆形束, 矢量扫描, 步进重复式 ...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品特点: JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 此外,由于具有100MHz的zei快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内...
JBX-9500FS 电子束光刻系统 JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品特点: zei快达到100MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 此外,由于具有100MHz的zei快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内...