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JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zui先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡ 产品规格: ·JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变...
效果图 均价12000 元/平 怀来县 -八达岭孔雀城 住宅 建面77-106㎡ 效果图 均价9500 元/平 怀来县 -御泉公馆 住宅 建面44-103㎡ 效果图 均价8000 元/平 怀来县 -菈斐水岸 住宅 建面64-138㎡ 效果图 均价9800 元/平 怀来县 -观澜墅 住宅 建面45-132㎡ 效果图 均价12000 元/平 怀来县 -鸿坤...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界最高水平的产出量和定位精度,最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 此外,由于具有100MHz的最快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界最高水平的产出量和定位精度,最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品规格: 电子枪 ZrO/W 肖特基型 描画方式 圆形束, 矢量扫描, 步进重复式 ...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 此外,由于具有100MHz的zei快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 通信设备由日本电子株式会社(JEOL) 为您提供,如您想了解更多关于日本电子JBX-9500FS电子...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品特点: JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片...
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。 产品特点: zei快达到100MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出...