半导体厂商D2S的首席执行官Aki Fujimura表示：“在EUV开始进入大批量制造的同时，行业开始采用多光束掩模写入器，现在几乎所有的EUV掩模都是用多光束掩模写入器写入的。”而在EUV掩膜的多光束掩模MBMW（Multibeam Mask Writer ）写入器领域，奥地利IMS占有90%以上市场份额。IMS Nanofabrication于2015年被英特尔收购。次年，...
半导体厂商D2S的首席执行官Aki Fujimura表示:“在EUV开始进入大批量制造的同时,行业开始采用多光束掩模写入器,现在几乎所有的EUV掩模都是用多光束掩模写入器写入的。” 而在EUV掩膜的多光束掩模MBMW(Multibeam Mask Writer )写入器领域,奥地利IMS占有90%以上市场份额。 IMS Nanofabrication于2015年被英特尔收购。次年,该...
An exposure pattern is computed which is used for exposing a desired pattern on a target in a charged-particle multi-beam processing apparatus so as to match a reference writing too