ICP-RIE（电感耦合等离子体 -反应离子刻蚀），这是将ICP与反应性离子刻蚀（RIE）的技术相结合。ICP-RIE是一种先进的技术，旨在提供高蚀刻速率、高选择性和低损伤处理。由于等离子体可以保持在低压下，因此还提供了出色的轮廓控制。ICP-RIE原理 首先，ICP-RIE系统引入特定的气体（比如SF6，CF4等），然后将射频电源（...
集成电路的制造离不开精确的刻蚀技术,而ICP-RIE(电感耦合等离子体-反应离子刻蚀)正是这一领域的前沿技术。它结合了ICP(电感耦合等离子体)和RIE(反应离子刻蚀)的优点,提供了高速、高选择性和低损伤的刻蚀效果。由于等离子体在低压下工作,ICP-RIE还能实现出色的轮廓控制。 ICP-RIE的工作原理 🌐 ICP-RIE系统首先引入...
原理上,rie刻蚀是通过射频电磁场产生等离子体与反应气体反应进行刻蚀;而icp刻蚀则用了电容耦合等离子体技术,让高能离子碰撞物质表面来刻蚀。 反应气体方面,rie刻蚀会加较多惰性气体,像氩气,来稀释反应气体,实现更精准的控制;icp刻蚀常用氟化物等气体,刻蚀速率会比较高。 工作特性上,rie是早期的刻蚀方式,单一射频源,工作...
垂直或倾斜的刻蚀角度均有其应用的场景，垂直角度更适合高密度互连的要求，可以避免锥形角度带来的空间浪费。而锥形角度可以使填孔工艺大大降低。ICP-RIE的功率调节？如上图，改变上位机电源的功率，可以改变等离子体的密度；改变偏置电源的功率可以改变正离子轰击晶圆的能量。增大ICP-source的电源时，等离子体浓度会增大...
品牌 SAMCO 德国Sentech sentechinstruments ICP刻蚀机 RIE800iPC 更新时间:2024年11月13日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 已核验企业 在线交易 安心购 查看详情 ￥300.00万/台 广东深圳 德国Sentech ICP-RIE SI 500型进口等离子刻蚀机 深圳市科时达电子科技有限公司 3年 查看详情 ￥5000.00/台 广...
感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中,射频直接连接到用作电极的样品台,产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。 最初的ICP反应器由石英管组成,射频线圈缠绕在石英管周围,以产生等离子体,从而产生各向异性蚀刻。感应耦合反应离子...
该过程是由于激发离子与材料的碰撞而发生的, 无需使用任何液体化学药品或蚀刻剂即可将其除去. 干法蚀刻比一般湿式蚀刻工艺更具等向性或非等向性, 有助于减少蚀刻的失误率. 上海伯东反应离子刻蚀机特点各种类型: RIE, ICP-RIE, ALE载台尺寸: 最大 12 inch氦冷或水冷等向性或非等向性的刻蚀 若...
设备名称: 等离子刻蚀机 适用范围: 适用于200mm的晶片 特性: 带预真空室、带传送腔、背面氦气冷却刻蚀、智能解决方案 规格: ICP-RIE SI 500型 新旧程度: 全新 用途范围: 电子元件成型、微透镜刻蚀等 产地: ICP-RIE SI 500 是否自动: 是(假设为自动化设备,根据商品性质推断) 自动化程度: 高(根...
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德国Sentech 等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500 低损伤刻蚀由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。自主研发的ICP等离子源三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH高端等离子体工艺设备的独特属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它...