RIE:Reactiveionetching Garfield::ICP和RIE相比主要是微波源不同。ICP是用线圈状的微波源盘绕在石英窗口上。ICP激发的离子浓度比RIE高,因此在同样的腐蚀速度下,单个离子的能量可以较低,这样刻蚀过程中对样品表面的物理伤害较小,可以得到很平整的表面。而RIE刻蚀过程中表面一般不会很平整,需要用湿法
行业资料 > 工业设计 > ICP与RIE相比有什么优点?结构有什么区别呢 打印 转格式 3475阅读文档大小:24.5K1页kong2009qi上传于2012-09-28格式:DOC