为了防止高反膜应力破坏基底的面型,采用数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的薄膜的应力进行了测量,并讨论了影响光学介质薄膜应力的多种因素。 使用了一种交替沉积 HfO2和SiO2薄膜的技术路线,HfO2薄膜作为高折射率材料体现出张应力,SiO2薄膜作为低折射率材料体现出压应力。 结果表明,在稳定了很多实验条件的情况下,通过...
1064nm与532nm激光对电子束蒸发制备的HfO2／SiO2高反膜损伤比较
激光预处理是提高薄膜元件抗激光损伤阈值的重要手段.对电子束蒸发HfO2,SiO2块状材料镀制的基频高反膜进行了1-on-1和R-on-1阈值测试,比较分析ur两种测试情况下出现的典型损伤形貌.实验发现,R-on-1测试表现出明显的预处理效应,其所测抗激光损伤阈值是1-on-1测试的3倍;1-on-1测试下的典型损伤形貌是围绕平底小...
电子束蒸发制备HfO2SiO2高反膜的1064 nm激光预处理效应 1064 nm Laser Conditioning Effect of HfO2SiO2 High Reflectors Deposited by E-Beam.pdf 2015-05-27上传 电子束蒸发制备HfO2SiO2高反膜的1064 nm激光预处理效应 1064 nm Laser Conditioning Effect of HfO2SiO2 High Reflectors Deposited by E-Beam ...
高反膜,增透膜和偏振膜是Nd:YAG激光器中的关键薄膜元件, 其抗激光损伤能力直接影响到激光器的输出能量和功率.由于优异的物理化学性能,高功率Nd:YAG激光器的光学薄膜一般采用HfO2/SiO2膜料组合镀 制,因而用此膜料镀制的光学薄膜的激光损伤特性是薄膜工作者重点关注的问题.对光学中心APS1504镀膜机镀制的HfO2/SiO2高...
文档标签: HfO2SiO2光学薄膜激光损伤阈值的测量 系统标签: 阈值 激光 损伤 薄膜 光学 高反膜 f / i 光学薄膜激光损伤阈值的测量 胡建平 ( 成都精密光学工程研究中心 四川成都 610041) 摘要 : 参照国际标准 ISO11254 及其规范 组建了小口径 1064nm 激光的损伤阈值测量装置 能对各种光学元件 包括高反膜 ~ 偏振膜...
1. 532 nm HfO2/SiO2高反膜的激光预处理效应 2. 1064 nm与532 nm激光对电子束蒸发制备的HfO2/SiO2高反膜损伤比较 3. HfO2/SiO2多层高反膜激光预处理技术 4. HfO2/SiO2薄膜的激光预处理作用研究 5. 电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性 6. 电子束蒸发制备HfO2薄膜的性能研究 7. SiO2/HfO2高反射膜...
参照国际标准ISO11254及其规范,组建了小口径1064nm激光的损伤阈值测量装置,能对各种光学元件,包括高反膜、偏振膜及增透膜等进行了1064nm激光损伤阈值测量,按损伤阈值测量国际标准的要求,测量了由HfO2/SiO2镀制的1064nm高反膜,偏振膜及增透膜的激光损伤阈值,分析了它
经常与SiO2膜层组合制备光学膜系,譬如紫外到近红外波段的高反膜、减反膜、滤光片等。 通常有两种方法可以制备得到HfO2薄膜。一种是直接蒸发HfO2膜料;另外一种是蒸发金属Hf,通过与氧气反应得到HfO2薄膜。这两种方法得到的薄膜区别很大。 2. HfO2膜料的多相特性...
HfO2／SiO2薄膜的激光预处理作用研究