微电子制造中的FIB..在微电子行业重要性在微电子行业中,FIB-SEM双束系统的应用至关重要,它不仅涵盖了芯片样品的精密切割,还包括对工艺缺陷的深入分析和器件结构的细致表征。这一系统以其卓越的性能,极大地促进了科研人员和工
图1. 典型FIB-SEM双束设备实物图图2. 典型FIB-SEM双束设备内部示意图应用一:截面分析金鉴实验室采用离子束刻蚀或者气体增强刻蚀等方法,FIB技术能够准确观测到器件特定微区的截面,从而形成清晰的高分辨图像,且不受被加工材料的约束,还能一边刻蚀一边用SEM对试样进行实时观测,截面分析就是FIB最为普遍的用途。 该刻蚀...
FIB-SEM 双束..摘要结合聚焦离子束(FIB)技术和扫描电子显微镜(SEM)的FIB-SEM双束系统,通过整合气体注入系统、纳米操控器、多种探测器以及可控样品台等附件,已发展成为一个能够进行微观区域成像、加工、分析和操
聚焦离子双束显微镜(..设备概览金鉴实验室配备了三台高性能的聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM),型号分别为Zeiss Auriga Compact、FEI Helios Nanolab 450S和FEI Scios2
聚焦离子束扫描电镜双束系统(FIB-SEM)是在SEM的基础上增加了聚焦离子束镜筒的双束系统,同时具备微纳加工和成像的功能,广泛应用于科学研究和半导体芯片研发等多个领域。本文介绍一下FIB-SEM在材料研究中的应用。1.定点剖面形貌和成分分析图1a和b分别是梳子形状的CdS微米线的光学显微镜和扫描电镜照片,从光学显微镜照片...
双束FIB-SEM系..红外焦平面探测器研发的关键技术在现代光电技术领域,红外焦平面探测器因其在军事和民用领域的广泛应用而备受关注。这些探测器的性能直接依赖于其制造工艺的精度和材料的先进性。聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-
FIB-SEM双束系..1. 定点剖面形貌和成分分析:通过FIB-SEM技术,可以在材料的特定区域进行精确切割,创建截面,以便进行形貌和成分分析。例如,对于CdS微米线,FIB-SEM能够在微米线节点处切割并成像,揭示内部含
聚焦离子束一电子束(..纳米科技是当前科学研究的前沿领域,纳米测量学和纳米加工技术在其中扮演着至关重要的角色。电子束和离子束等工艺是实现纳米尺度加工的关键手段。特别是聚焦离子束(FIB)系统,通过结合高强度的离子束和实时观测
分析步骤一:将预处理好的样品放入机台用SEM成像进行Pad整体观察,如下图: 分析步骤二:在SEM大倍率下对观测的检测Pad进行检测,找到了对应的检测部位,见下图所示: 分析步骤三:锁定测试位置,利用FIB对缺陷点进行离子切割。金鉴实验室在离子切割过程中,采用先进的FIB技术,确保切割精度高,不影响缺陷点的形成,保障分析结果...
聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)技术为页岩纳米级孔隙结构的研究提供了新的途径。该技术通过镓离子束的连续切割和电子束成像,能够以高分辨率真实地展现页岩孔隙的三维结构。在样品制备过程中,页岩样品被切割、磨平和抛光,以确保表面平整并增强导电性。FIB-SEM的切割和成像过程中,样品在真空室内被离子束切割,并通过电子束...