Coating services include materials development by atomic layer deposition (ALD), chemical vapor deposition (CVD), and molecular layer deposition (MLD). Trust our expert team for innovative solutions tailored to your needs. Discover the future of surface technology today. VaporPulse has over 15 years...
Arradiance specializes in Atomic Layer Deposition (ALD) process equipment, systems, tools and foundry coating services
科睿设备有限公司供应原子层沉积系统(Atomic Layer Deposition System)供应产品,产品特性1.系统含有两个腔体:真空腔和沉积反应腔。有效地防止温度和真空度的泄漏,保持稳定的沉积反应条件,成膜均一细致无漏点。这是其他只有单一腔体设备所不能达到的。沉积腔与真空腔分开,沉
以原子层为单位沉积技术 “Atomic Layer Deposition(ALD)” 的开发克服了原来的半导体技术局限。 ALD 技术和CVD, PVD 薄膜生长技术相比具有以下优势:1.大部分ALD 工艺在400度以下的低温进行;2. 由于是以原子为单位沉积,可以精确的控制非常薄的薄膜,杂质含量低,几乎没有pin hole; 3. ALD 即使在 High Aspect ...
Anric原子层沉积系统,AT-410 Atomic Layer Deposition System ￥100.00万 查看详情 膜厚仪 高分辨率 光学 膜厚测量 FR-pRo 测厚仪 面议 查看详情 高精度狭缝挤出式涂布机(可适配于套箱) Slot Die Coater ￥45.00万 本店由百捷购运营支持 获取底价 武汉迈可诺科技有限公司 商品描述 价格说明 联系我们 获取底价...
Understand the semiconductor atomic layer deposition process for advanced ALD batch chambers using Eurotherm cascade control solutions for wafer manufacturing
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。原子层沉积技术逐渐成为了相关制造...
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断
Atomic Layer Deposition, or ALD, is one of our technological solutions that works at a tiny level to make a huge difference.Our technology & products ALD About ALD Champions of ALD ASM is the leading supplier of Atomic Layer Deposition, or ALD, equipment and process solutions for semiconductor...
Atomic Layer Deposition原子层沉积系统AT410/AT610系列 美国原装进ALD原子层沉积系统常被应用在各类半导体处理工艺领域,通过原子层沉积来制备薄膜,由于ALD 沉积系统价格昂贵,而望而却步。因此,本系统致力于以低廉合理的成本在小型尺寸(4~6英寸以内)上沉积出优秀的薄膜。 应用范围:原子层沉积系统是专门为科研和工业小型...