The meaning of ATOMIC LAYER DEPOSITION is a technique for depositing a film onto a surface in monolayers by utilizing a self-limiting chemical reaction. How to use atomic layer deposition in a sentence.
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD) 描述 原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是指通过单原子膜逐层生长的方式,将原子逐层沉淀在衬底材料上。典型的 ALD 采用的是将气相前驱物(Precursor)交替脉冲式地输人到反应器内的方式。 例如,首先将反应前驱物 1通入到衬底表面,并经过化学吸附,在衬底表面形成一...
以原子层为单位沉积技术 “Atomic Layer Deposition(ALD)” 的开发克服了原来的半导体技术局限。 ALD 技术和CVD, PVD 薄膜生长技术相比具有以下优势:1.大部分ALD 工艺在400度以下的低温进行;2. 由于是以原子为单位沉积,可以精确的控制非常薄的薄膜,杂质含量低,几乎没有pin hole; 3. ALD 即使在 High Aspect ...
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量...
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量...
Atomic Layer Deposition in Energy Conversion Applications Combining the two topics for the first time, this book begins with an introduction to the recent challenges in energy conversion devices from a materials preparation perspective and how they can be overcome by using atomic layer depositi... ...
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。它可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成...
Arradiance specializes in Atomic Layer Deposition (ALD) process equipment, systems, tools and foundry coating services
Atomic layer deposition (ALD) which has emerged as an important technique for depositing thin films for a variety of applications has been reported. The necessity for continuous and pinhole-free films in semiconductor devices has driven the advancement of ALD. ALD is able to meet the needs for...