Atomic layer deposition (ALD) is a thin film growth technique that utilises alternating, self-saturation chemical reactions between gaseous precursors to achieve deposited nanoscale layers. The ALD process is capable of depositing a variety of thin-film materials to protect MEMS devices from ...
以原子层为单位沉积技术 “Atomic Layer Deposition(ALD)” 的开发克服了原来的半导体技术局限。 ALD 技术和CVD, PVD 薄膜生长技术相比具有以下优势:1.大部分ALD 工艺在400度以下的低温进行;2. 由于是以原子为单位沉积,可以精确的控制非常薄的薄膜,杂质含量低,几乎没有pin hole; 3. ALD 即使在 High Aspect ...
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量...
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD) 描述 原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是指通过单原子膜逐层生长的方式,将原子逐层沉淀在衬底材料上。典型的 ALD 采用的是将气相前驱物(Precursor)交替脉冲式地输人到反应器内的方式。 例如,首先将反应前驱物 1通入到衬底表面,并经过化学吸附,在衬底表面形成一...
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。原子层沉积技术逐渐成为了相关制造...
Atomic layer deposition (ALD) relies on self-limiting reaction within a cyclic process and is being considered as a potential technique for synthesizing nanomaterials with precisely controlled internal structure. Therefore, the design and synthesis of advanced ultrafine nanomaterials becomes feasible through...
Atomic layer deposition(ALD) is a technique capable of depositing a variety of thin film materials from the vapor phase. ALD has shown great promise in emerging semiconductor and energy conversion technologies. This review is intended to introduce the reader to the basics of ALD and highlight cu...
The meaning of ATOMIC LAYER DEPOSITION is a technique for depositing a film onto a surface in monolayers by utilizing a self-limiting chemical reaction. How to use atomic layer deposition in a sentence.
Atomic Layer Deposition原子层沉积系统AT410/AT610系列 美国原装进ALD原子层沉积系统常被应用在各类半导体处理工艺领域,通过原子层沉积来制备薄膜,由于ALD 沉积系统价格昂贵,而望而却步。因此,本系统致力于以低廉合理的成本在小型尺寸(4~6英寸以内)上沉积出优秀的薄膜。 应用范围:原子层沉积系统是专门为科研和工业小型...
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量...