ASTM D5127-13(2018) 电子和半导体行业超纯水标准指南 Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries 点击打开全屏PDF预览 点击查看大图 标准号 ASTM D5127-13(2018) 发布 2018年 总页数 6页 发布单位 美国材料与试验协会 ...
内容提示: Designation: D5127 − 13 (Reapproved 2018)Standard Guide forUltra-Pure Water Used in the Electronics andSemiconductor Industries 1This standard is issued under the f i xed designation D5127; the number immediately following the designation indicates the year oforiginal adoption or, in ...
1.3 用户需要与此处描述的水质不同的水质时,应查阅其他水标准,例如规范D1193和指南D5196。1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题(如果有)。本标准的使用者有责任建立适当的安全、健康和环境实践,并在使用前确定监管限制的适用性。1.5 本国际标准是根据世界贸易组织贸易技术壁垒(TBT)委员会发布的《关于...
绿色表示标准:ASTM D5127-13(2018) , 绿色、红色表示本平台存在此标准,您可以下载或者购买,灰色表示平台不存在此标准; 箭头终点方向的标准引用了起点方向的标准。 点击查看大图 标准号 ASTM D5127-13(2018) 发布 2018年 总页数 6页 发布单位 美国材料与试验协会 当前最新 ASTM D5127-13(2018) 引用标准 ASTM...
ASTM D5127-13(2018)的仪器设备信息,1.1 本指南提供了与电子和半导体行业制造相关的水质建议。描述了七种水分类,包括线宽低至 0.032 µm 的水。在所有情况下,建议都是针对分配点 (POD) 的水。 1.2 水用于半导体元件在制造过程中的清洗和漂洗。水还用于清洁和蚀刻操作、
ASTM D5127-13(2018)的仪器谱信息,1.1 本指南提供了与电子和半导体行业制造相关的水质建议。描述了七种水分类,包括线宽低至 0.032 µm 的水。在所有情况下,建议都是针对分配点 (POD) 的水。 1.2 水用于半导体元件在制造过程中的清洗和漂洗。水还用于清洁和蚀刻操作、制
最新版本是ASTM D5127-13(2018)。 1.1 本指南提供了与电子和半导体行业制造相关的水质建议。描述了七种水分类,包括线宽低至 0.032 µm 的水。在所有情况下,建议都是针对分配点 (POD) 的水。 1.2 水用于半导体元件在制造过程中的清洗和漂洗。水还用于清洁和蚀刻操作、制造蒸汽以氧化硅表面、制备光掩模以及沉积...