ASML高歌猛进于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B,将光刻机的制程(即最小的电路栅格间距离)从7纳米推到了5纳米。而由此,ASML的光刻霸主地位也最终确定。 近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (Peter Wennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Martinvanden Brink)将于 2024年4月2...
在印刷24nm节距线方面取得突破,该节距对应于3nm节点中关键后段金属层节距。通过在IMEC洁净室中将先进的成像方案,创新的光阻材料和ASML的NXE:3400B系统上的优化设置相结合,使该系统能够在单个曝光步骤中以24nm的节距打印图形。 这种成像性能使IMEC的光阻和构图合作伙伴生态系统能够利用NXE:3400B作为早期工艺开发平台,...
从2017年第二季出货第一台量产机型TWINSCAN NXE: 3400B至今，包括NXE: 3400B、NXE: 3400C和NXE: 3600D累计出货超过150台。根据ASML EUV光刻机路线图显示，预计2023年出货的NXE:3800E最初将以30mJ/cm²的速度提供大过每小时195片的产能，并在吞吐量升级后达到每小时220片，同时在像差、重叠和吞吐量方面进行...
2017、2019、2021年ASML分别开始量产出货NXE:3400B、NXE:3400C和NXE:3400D,分辨率、套刻精度、生产效率不断提升。 ▲ASML EUV产品路线图 当前,全球仅ASML能生产高端EUV,浸没式DUV也仅ASML与Nikon出货,2022年ASML出货占95%,在ArF和KrF光刻机的份额也高达88%/72%。仅低端i线光刻机上,Canon出货占比较高。 文章...
之后，AMSL 于 2017 年推出了 TWINSCANNXE:3400B，将光刻机的制程（即最小的电路栅格间距离）从 7 纳米推到了 5 纳米。2020 年初，AMSL 发货了第 100 台 EUV 光刻机。再到 2023 年，再次推出了 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000。从 AMSL 的路线图来看，在 2025 年还要推出将新一代 High-NA ...
根据外电报导,目前ASML出货的EUV光刻机主要是NXE:3400B,以及进化版的NXE:3400C两款型号。基本上两种型号的EUV光刻机构造相同,但是NXE:3400C采用模组化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8到10小时,可支援7纳米及5纳米制程的生产需求。
之后，AMSL于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，将光刻机的制程（即最小的电路栅格间距离）从7纳米推到了5纳米。2020年初，AMSL发货了第100台EUV光刻机。再到2023年，再次推出了High NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5000。从AMSL的路线图来看，在2025年还要推出将新一代High-NA EUV系统EXE:5200。02 ASML卖了多少光...
从ASML公告理解的型号来看，2018年推出的TWINSCANNXT:2000i及之后更高阶的浸没式设备（现有的NXT2050i和之后的新品）均无法出货，但2015年推出的TWINSCANNXT:1980Di存有一线生机。在实际应用中，2000i套刻精度（overlay）高，和NXE:3400BEUV光刻机接近被视为EUV的良好补充，2050i在2000i的基础上进一步提高了生产效率...
ASML高歌猛进于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B,将光刻机的制程(即最小的电路栅格间距离)从7纳米推到了5纳米。而由此,ASML的光刻霸主地位也最终确定。 作者:陈永伟 封图:图虫创意 近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (Peter Wennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Martinvan...
目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。此外，NXE:3400C的产能也从之前的125WPH（每小时处理晶圆数）提升到了175WPH。不论NXE:3400B还是NXE:3400C，目前的EUV光刻机还是...