据ASML的路线图，第一代的High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5000计划于2022年底推出，但这款机型可能主要是被晶圆制造商用于相关测试，实际量产的将会依赖于2024年底出货的TWINSCAN EXE:5200，每小时可生产超过220片晶圆。近日，半导体研究机构SemiAnalysis的半导体设备和制造分析分析师Jeff Koch发布了一篇题为《ASML困境：...
据ASML的路线图,第一代的High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5000计划于2022年底推出,但这款机型可能主要是被晶圆制造商用于相关测试,实际量产的将会依赖于2024年底出货的TWINSCAN EXE:5200,每小时可生产超过220片晶圆。 近日,半导体研究机构SemiAnalysis的半导体设备和制造分析分析师Jeff Koch发布了一篇题为《ASML困境:High...
因此,ASML正加快研发对应工艺精度的光刻机产品,而最早有望面市的型号,就是EXE:5000型产品。 EXE:5000型EUV光刻机将NA高数值孔径提升至0.55,大幅提高工艺精度 和现阶段的NXE:3400系列EUV光刻机相比,EXE:5000在工艺精度方面有显著提升: 1. 光刻机型号:NXE3400系列 vs EXE5000系列; 2. 高数值孔径:0.33 vs 0....
ASML推出可用于32nm制程的ArFi光刻机XT 1950i2007-2008ASML交付第三代EUV光刻机NXE 33502015ASML第四代NXE3400型EUV光刻机获得批量订单ASML收购量测设备供应商HMI20162020ASML实现EUV光刻机的大批量生产,累计出货量达100台ASML收购Berliner GlasASML推出首台High-NA EUV光刻机EXE 5000,并向Intel交付首批模块...