APCVD与LPCVD设备 APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition),常压化学气象沉淀法,通常是指在标准大气压下利用气体化合物在固体基板上发生化学反应生成薄膜的工艺。由于标准大气压下气体分子密度较高,APCVD法沉积速率极快,高达600-1000nm/min。 进行APCVD之前一般需要用不参与反应的惰性气体(常用氮气、氩气等)...
常压化学气相沉积(APCVD)设备是指在压力接近大气压力的环境下,将气态反应源匀速喷射至加热的固体衬底表面,使反应源在衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜的设备。APCVD设备是蕞早出现的CVD设备,至今仍被广泛应用于工业生产和科学研究中。APCVD设备可用于制备单晶硅、多晶硅、二氧化硅、氧化锌、二氧化钛、磷...
3. 薄膜质量高:SES630A硅APCVD设备可以沉积高质量的薄膜,如二氧化硅、氮化硅等,这些薄膜在半导体器件中扮演着重要的角色,如绝缘层、钝化层、介电层等。 4. 操作简便:SES630A硅APCVD设备的控制系统可以自动控制设备的各个参数,操作简便。 总的来说,SES630A硅APCVD设备是半导体制造过程中不可或缺的一...
1.APCVD设备自动下料存放结构,包括底板(1),所述底板(1)的顶部设置有两个支柱(2),其特征在于:所述底板(1)的顶部设置分别有运料机构(3)和存放机构(4); 所述运料机构(3)包括接料板(31)和运料架(32),所述接料板(31)的外表面与运料架(32)的外表面固定连接,所述运料架(32)的外部设置有连接架(33)...
APCVD 推荐设备 设备列表 类别 制造商 型号 尺寸 性能 状态
APCVD设备采购项目成交结果公告(招标编号:0722-2022FE3761TJF) 一、中标人信息: 标段(包)[001]APCVD设备采购项目(二次): 中标人:无锡芯谱半导体科技有限公司 其他类型中标价:/ 二、其他: APCVD设备采购项目于2022年7月26日9:30开标,评标委员会以招标文件为依据对投标文件进行评审。根据评标委员会提供的书面评审报...
甘肃瑞纳项目管理有限公司受天水天光半导体有限责任公司APCVD(外延炉)设备公开招标采购项目以公开招标的方式进行采购,评标委员会于2021年08月02日确定中标结果。现将中标结果公布如下: 一、招标文件编号:TSTGGKZB2021-002 二、中标结果内容: 人民币/元 序号 货物名称 品牌型号 数量 单位 单价 总价 1 ...
长沙威灵海机械设备有限公司 法定代表人 股东 执行董事兼总经理 王贵 50万(元) 2010-04-15 湖南省长沙市天心区 吊销 所有任职企业 1 序号 企业名称 职务 注册资本 成立时间 地区 状态 1 威灵海 长沙威灵海机械设备有限公司 法定代表人 股东 执行董事兼总经理 50万(元) 2010-04-15 湖南省长沙市天心...
SES630A硅APCVD设备采用大气压力化学气相沉积技术,即在大气压力下进行化学反应,从而在硅片表面沉积所需的薄膜。反应气体被引入反应室,与硅片表面发生化学反应,生成所需的薄膜。相比传统的低压化学气相沉积技术,SES630A硅APCVD设备具有更高的生产效率和更低的成本。 二、主要部件 SES630A硅APCVD设备主要包括反应室、气体供...
APCVD设备的构成包括反应腔(石英炉)、真空泵、气路系统、检测系统和尾气处理系统等。APCVD在工业上的成熟应用包括二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、氮氧化硅薄膜、非晶硅薄膜、硅化钛薄膜等。 LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition),低压力化学气相沉积法是将反应气压控制在50-133Pa(千分之一个标准大气压左右及以下)...