XPS 光谱解读 氧化铝是绝缘材料,氧化物的峰位可能随膜的厚度而变化。 氧化物峰和金属峰的相对强度也将随着氧化物的厚度而变化。 这种效应赋予了 XPS 测量氧化铝薄膜的厚度的能力。 Al2p 峰具有紧邻的自旋-轨道谱 (Δ金属=0.44 eV) 仅在典型实验条件下观察到铝金属的分裂谱...
XPS 谱峰 , 表 1 列出了依据模拟解叠峰分析所得的催化剂表面 Cu 元素的组成 . 我们曾对 Cu60/Zn30/Al10 和 Cu60/Zn30/Al5/Ce5 催化剂的活性和稳定性进行了详细的测试 [5] . 结果 表明 ,Cu60/Zn30/Al5/Ce5 催化剂具有良好的活性和 选择性 , 且其稳定性高于 Cu60/Zn30/Al10 催化剂 , 说...
图1为pH值在4.0 ~ 6.5之间时,Al(Ⅲ)水解沉淀物相分析。当pH值在4.0 ~ 5.0之间时,分析确定其物相为非晶态Al(OH)3;当pH值增加到6.0和6.5时,分析确定其物相为晶型Al(OH)3和MgAl2(OH)8。 图1 Al/P摩尔比为13时,在不同pH值...
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因此我们对不同pH值下的沉淀物和1.5mol/L P507进行了XPS分析。由图8(d)可知,P507的P 2p轨道的P-C、P-O、P=O的结合能分别为134.98、136.13和137.35 ev,吸附除油后所得沉淀物的P 2p轨道的P-C、P-O、P=O的结合能均降低。结...
图9为AlxCoCrFeNi高熵合金样品的X射线光电子能谱(XPS)图。对各试样的表面钝化膜具体组成分析发现(详见文章分析),Al-5试样中Co(OH)2含量最高;Al-10和Al-15样品表面的钝化膜以Cr2O3为主,含量均达到10.5 at.%以上,明显高于其他合金样品;Al-20样品表面钝化膜则以Fe2O3为主。同时,Al-10和Al-15样品表面...
图4 用XPS分析揭示Li/Ni混合抑制的成因。NM (a)、NMA (b)和NMA-δ (c) Ni 2p谱的反褶积。NM (d)、NMA (e)和NMA-δ (f)的Mn 2p谱的反卷积。g)三种阴极的Ni3+比和Mn4+比。X射线光电子能谱(XPS)测量揭示了NMA和NMA-δ中Li/Ni混排抑制的来源。Al3+的尺寸与Li+相差很大，并且Al3+与Co3+具有...
(b)AlCl3沉积Li箔的俯视图和横切面的SEM图像。(c)制备的LACSS的SEM俯视图和截面图。(d)Al和Cl对应的EDS图谱。(e)LACSS制备过程示意图。(f)Li5Al2O+,Li2Cl+和Li3+二次离子碎片的深度分析。(g)Li5Al2O+,Li2Cl+和Li3+信号的三维TOF-SIMS映射图像。(h)LACSS的Al 2p和Cl 2p光谱的深度XPS谱图。
图4 用XPS分析揭示Li/Ni混合抑制的成因。NM (a)、NMA (b)和NMA-δ (c) Ni 2p谱的反褶积。NM (d)、NMA (e)和NMA-δ (f)的Mn 2p谱的反卷积。g)三种阴极的Ni3+比和Mn4+比。 X射线光电子能谱(XPS)测量揭示了NMA和NMA-δ中Li/Ni混排抑制的来源。Al3+的尺寸与Li+相差很大,并且Al3+与Co3+具...
XPS分析结果如表4所示，方解石未处理表面存在Ca、O和C三种原子，其含量分别为18.96%、49.29%和31.75%。苛化淀粉与方解石表面反应后，O的原子含量增大0.43百分点，Ca的原子含量减少0.53百分点。尽管Al−淀粉处理后方解石原子浓度的变化与苛化淀粉类似，但该抑制剂作用时的影响更大。经过Al−淀粉处理后，方解石...