X-射线光电子能谱(XPS)显示,在532.32和286.07 eV处分别为O1s和C1s峰,说明CDs主要由C和O两种元素组成,C和O占比分别为55.09%和44.91%(图3D)。图3E为C1s的高分辨谱图,包含284.83,286.45、288.37和291.7 eV处的4个峰,分别对应CC/CC、COC/COH、CO、OCO官能团;图3F为O1s的高分辨谱图,531.97 eV和533.07 eV分别...
为了进一步获取LCO正极的表面化学信息,对循环200圈后的LCO正极进行了XPS组分分析 (图7a)。从图7b中的元素分布图可知,双包覆处理后的LCO正极表面的F物种明显减少 (主要是LiF的量减少),表明包覆能够有效减少界面处LiPF6的分解反应。O 1s谱图中更高的Me-O峰说明了界面成膜相比于未包覆材料更薄,这一结果也与TEM表...
已知氧化铝的XPS在Al 2p区只有一个峰,而铝的XPS则有两个相距3 eV的峰,这是因为有:()A.轨道间偶合B.轨道—自旋偶合C.自旋—自旋偶合D.不同价态的铝
此外,相对于Cu/Al2O3-H2催化剂中金属Cu的特征峰,双金属CuxNiy/Al2O3-H2催化剂中金属Cu的特征峰向高角度(2θ)偏移约0.15°,说明双金属催化剂中Cu和Ni之间存在相互作用(图2b)。Cu 2p XPS谱图表明,相对于Cu/Al2O3-H2催化剂...
在图6a中,CZA-xMn催化剂在反应过程中的O 1s XPS曲线呈现出三个峰(α, β和γ),分别归因于表面羟基,表面氧负载(O-, O2-或O22-)和晶格氧Olatt(O2-)。负载(β峰)与催化剂表面氧空位有关。随着Mn促进剂含量的增加,催化剂...
XPS分析表明这一层保护层的主要成分为Li-Al-O和Li-Al-F化合物,根据Al元素的键能分析该保护层中可能包含LixAlF3+x、AlFx(OH)y?H2O和AlO2?等成分。同时根据XRD数据计算得到的Ni/Li混排比例也显示,保护层的存在也能够有效的抑制Ni/Li混排,提升NCA材料晶体稳定性。
2.2.4 XPS结果 Cu/Zn=1和Cu/Zn=7/2催化剂的Cu 2p3/2XPS谱如图5(a)所示。两个催化剂均在933eV处呈现一主峰,在941～943V处呈现一卫星伴峰,归属于Cu2+。Cu/Zn=1和Cu/Zn=7/2催化剂的Cu2+电子结合能分别为933.9和933.6eV,均比纯CuO的结合能(933.4eV)高。而由图5(b)可知,Cu/Zn=1和Cu/Zn=7/...
表1:XPS拟合了W4f7/2和W5p3/2信号的不同氧化水平的参数。 在Li + 插入10mCcm −2 后,W4f信号在较低的结合能下显示出额外的弱信号,cf。图1a-ii。这可以归因于W 5+ 物种的存在。它是由发生在插入过程,约占总W4f信号的9.5%。在电荷密度为20和40mCcm ...
图2. 催化剂XPS图谱。Ru/γ-Al2O3和Ru-20TFMSA/γ-Al2O3中C 1s与Ru 3d结合峰 (a) 和Ru 3p 峰(b)。 从图3a可知,TFMSA修饰Ru/γ-Al2O3提高了其对环己烷的选择性。TFMSA修饰的Ru/γ-Al2O3所呈现的优异催化性能可归因于以下原因:(i) TFMSA修饰后,Ru纳米颗粒在γ-Al2O3上的分散性得到提高;(ii...
下图普通NCM正极和掺入石墨烯和Al2O3的NCM正极在50℃、3C循环400次后不同深度电极界面的XPS分析结果， 可以看到在纯NCM电极中Ni 2p1/2特征峰的强度随着腐蚀深度的增加而增强，在腐蚀深度大于6.48nm时Ni 2p1/2特征峰才比较明显，而掺入石墨烯和Al2O3的NCM正极则从表面开始Ni 2p1/2特征峰就已经比较明显了...