金属有机化学气相沉积系统 金属有机化学气相沉积系统是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2015年3月20日启用。技术指标 分子泵，超净间。主要功能 蚀刻。
中文名称:金属有机化学气相沉积系统MOVPE设备产品类别:生长系统 MOVPE设备 概述: NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及...
所谓在某些书籍上所出现的MOVPE其实就是鼎鼎大名的MOCVD,即MOCVD/MOVPE:金属有机化学气相沉积系统。 MOCVD 金属有机物化学气相淀积(Metal- OrganicChemicalVaporDeposition,简称 MOCVD),1968 年由美国洛克威尔公司提出来的一项制备化合物半导体单品薄膜的新技术。该设备集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化...
1、金屬有機化學氣相沉積系統 (Metal Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD)A. 儀器簡介MOCVD系統主要功能在於沉積高介電常數薄膜,可隨著precursor的更換,而沉積出不同種類的薄膜。目前所能沉積的薄膜以HfO2及Al2O3薄膜,且製程厚度為20200A的薄膜。v 全名: 金屬有機化學氣相沉積系統 v 位置: class 100 v ...
MOCVD（有机金属化学气相沉积法）是一种广泛应用于薄膜生长过程中的技术。当携带流体（通常为氢气，但在特定情况下如InGaN薄膜生长时，氮气也可能被使用）经过有机金属反应源的装置时，反应源中的饱和蒸气会被输送到反应室，与其它反应气体混合。在加热的基板表面，这些气体发生化学反应，形成所需的薄膜层...
金属有机化学气相沉积镀膜系统(MOCVD)其反应器的设计可以根据工艺的需要很容易提升到满足大直径晶片生产的需要。我们也能为客户设计以满足客户特殊工艺和应用的需要。系统部件包括:反应器、气体传输系统、电气控制系统和尾气处理系统。 详细介绍 金属有机化学气相沉积镀膜系统(MOCVD) 介绍:我们提供了一套完整的MOCVD,...
本发明涉及一种金属有机化学气相沉积反应系统,具体地讲是涉及一种紫外辅助金属有机化学气相沉积反应系统.它包括反应腔室,位于反应腔室内顶部的喷淋装置和位于反应腔室内底部的加热装置,还包括对称的设于反应腔室两侧腔壁上的石英窗以及与石英窗对应的固定于腔壁外部的紫外光源组件.本发明的系统结构简单且利于拆卸维护,...
NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统的技术特点和独有技术特征,包含仪器所使用的技术、独特性、技术特征等信息,那诺-马斯特镀膜机,该系统具有5个鼓泡装置、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮
金属有机化学气相沉积（MOCVD）是一种合成方法，尤其适合于膜合成。而发光二极管（LED）是一种半导体器件，本无关联；只是LED中广泛用到膜技术制造。成膜技术很多，除了MOCVD外，还有低压CVD(LPCVD)，等离子体增强CVD (PECVD)，液相外延(LPE)，溶胶凝胶(sol-gel)，化学浴沉积(CBD)等等，种类繁多，可见...