6.金属栅极的沉积方法 金属栅极的沉积方法主要由HKMG的整合工艺决定。为了获得稳 定均匀的有效功函数,两种工艺都对薄膜厚度的均匀性要求较高。另外,先栅极的工艺对金属薄膜没有台阶覆盖性的要求,但是后栅极工 艺因为需要重新填充原来多晶硅栅极的地方,因此对薄膜的台阶覆盖 性及其均匀度要求较高。 目前的功函数金属...