等离子体刻蚀是通过将气体激发成等离子体状态,利用高能离子或自由基的化学反应以及物理轰击来去除材料表面的一种技术。它具有高精度、高速率和高选择性等特点,是制备微结构和纳米结构的重要手段。 二、等离子体刻蚀过程 等离子体刻蚀过程主要分为物理刻蚀和化学刻蚀两个阶段。 1.物理刻蚀:当气体被加热并加高电压或电磁...
等离子体刻蚀机原理 蚀 等离子体刻机原理 什么是等离子体？▪随着温度的升高，一般物质依次表现为固体、液体和气体。它们统称为物质的三态。▪当气体的温度进一步升高时，其中许多，甚至全部分子或原子将由于激烈的相互碰撞而离解为电子和正离子。这时物质将进入一种新的状态，即主要由电子和正离子（或是带正电的...
刻蚀机理的解释适用于所有类型的等离子体技术,不局限于RIE。 通常,等离子体刻蚀是化学刻蚀,不是物理刻蚀,这意味着固体原子与气体原子反应形成化学分子,然后从基片表面移除形成刻蚀。因为VDC的存在,通常存在一定的基片溅射,对于大量的刻蚀,物理刻蚀效应很弱可以被忽略。 几个主要的刻蚀过程为: 1. 形成反应粒子; 2. 反...
等离子体刻蚀的原理呀,就是利用电子、离子、自由基这些等离子体物种,去和物质表面发生化学反应。这样物质表面就会发生化学变化,形成气体离子,然后这些气体离子就被从表面剥离啦。整个过程呢,就像是先给气体分子加个“热身”,让它们变成等离子体;然后这些等离子体就“跑”到物体表面去;接着就“赖”在表面不走了,开始发...
等离子体表面刻蚀是一种利用等离子体在化学反应中的活性来制造微纳米结构的技术。通俗而言,等离子体是由高能电子、离子和分子构成的带电气体,其高能量和化学反应性使其成为一种理想的表面刻蚀工具。 二、等离子体表面刻蚀的应用 等离子体表面刻蚀技术在微纳米加...
2.2刻蚀腔体 上电极:上电极的下表面布满了均匀分布的小孔,为了将气体均匀给到ICP的主腔室; ICP射频:在ICP射频作用下,输送进来的气体产生辉光放电,耦合感生出大量等离子体;ICP功率越大,则等离子体的密度越大。 RF射频:提供等离子体的偏转电压,RF功率越大,则等离子体的动能越大,轰击效果加强,从而更加保证基底与掩膜...
一、ICP等离子刻蚀的原理 1. 等离子体的产生 ICP等离子刻蚀是利用高频电场激励气体形成等离子体,通过等离子体与材料表面反应来实现微纳加工的过程。ICP等离子刻蚀的等离子体产生主要有两种方式,一种是通过射频电场激励气体,另一种是通过微波电场激励气体。 等离子刻蚀 ...
等离子体刻蚀机主要由以下几个部分组成: 1.真空室:刻蚀过程需要在真空环境下进行,真空室是等离子体刻蚀机的基础部分。 2.气体供应系统:在真空室内注入气体,产生等离子体化的气体,以便刻蚀。 3.射频发生器:产生高频电场,使气体离子化,从而形成等离子体。 4.上下电极:等离子体在电极之间形成,...
感应耦合等离子体（ICP）刻蚀机是一种高效精密的微加工设备。其工作原理基于ICP技术，通过高频电源使气体（如Ar、SF6等）在高频电磁场中产生高密度等离子体。在ICP刻蚀过程中，等离子体中的活性基团或离子与待刻蚀材料发生化学反应，这一过程称为化学刻蚀。通过化学反应，材料中的键被打开，从而实现材料的...
离子-阻挡层复合作用刻蚀是在刻蚀过程中等离子体能提供刻蚀粒子和载能离子,还需要提供能形成阻挡层的分子,该分子可以沉积在材料表面形成保护膜。 光刻胶(PhotoResist)根据其化学反应机理和显影原理分为正光刻胶和负光刻胶。正光刻胶在曝光前后,其增感剂由溶解抑制剂变成能溶解增强剂,而负光刻胶刚好相反。因此在半...